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J-GLOBAL ID：201502207705676406   整理番号：15A0980961

ビスマス表面におけるスピン依存イオン散乱

Spin-Dependent Ion Scattering on Bismuth Surfaces

著者 (5件)： 一ノ倉聖 (東京大学大学院理学系研究科物理学専攻) ,  平原徹 (東京工業大学大学院理工学研究科物性物理学専攻) ,  酒井治 (物質・材料研究機構) ,  長谷川修司 (東京大学大学院理学系研究科物理学専攻) ,  鈴木拓 (物質・材料研究機構)
資料名： 表面科学  (JSSSJ)
巻： 36  号： 8  ページ： 408-411 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： F0940B  ISSN： 0388-5321  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ビスマス ,  スピン-軌道相互作用 ,  *低速イオン散乱 ,  原子衝突 ,  イオン散乱分光法 ,  *依存性 ,  スピン分極 ,  角度 ,  電子移動 ,  イオン ,  ヘリウム
準シソーラス用語： *スピン依存性 ,  ヘリウムイオン ,  散乱角

分類 (2件)： 金属の表面構造  (BK15020P) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

引用文献 (11件)：

• 1) T. Suzuki and Y. Yamauchi: Surf. Sci. 602, 579 (2008).
• 2) 鈴木 拓: 固体物理 47, 217 (2012).
• 3) T.T. Suzuki, Y. Yamauchi and S. Hishita: Phys. Rev. Lett. 107, 176101 (2011).
• 4) T.T. Suzuki, O. Sakai, S. Ichinokura, T. Hirahara and S. Hasegawa: Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 354, 163 (2015).
• 5) T. Nagao, J.T. Sadowski, M. Saito, S. Yaginuma, Y. Fujikawa, T. Kogure, T. Ohno, Y. Hasegawa, S. Hasegawa and T. Sakurai: Phys. Rev. Lett. 93, 105501 (2004).

タイトルに関連する用語 (3件)： ビスマス ,  スピン ,  イオン散乱