文献

J-GLOBAL ID：201502208699946281   整理番号：15A0952662

Siにおける小角傾斜境界におけるCu析出のナノスコピック機構

Nanoscopic mechanism of Cu precipitation at small-angle tilt boundaries in Si

著者 (16件)： OHNO Yutaka (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  INOUE Kaihei (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KUTSUKAKE Kentaro (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  DEURA Momoko (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OHSAWA Takayuki (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YONENAGA Ichiro (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YOSHIDA Hideto (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAKEDA Seiji (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TANIGUCHI Ryo (Kwansei Gakuin Univ., Hyogo, JPN) ,  OTUBO Hideki (Kwansei Gakuin Univ., Hyogo, JPN) ,  NISHITANI Sigeto R. (Kwansei Gakuin Univ., Hyogo, JPN) ,  EBISAWA Naoki (Tohoku Univ., Ibaraki, JPN) ,  SHIMIZU Yasuo (Tohoku Univ., Ibaraki, JPN) ,  TAKAMIZAWA Hisashi (Tohoku Univ., Ibaraki, JPN) ,  INOUE Koji (Tohoku Univ., Ibaraki, JPN) ,  NAGAI Yasuyoshi (Tohoku Univ., Ibaraki, JPN)
資料名： Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics  (Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)
巻： 91  号： 23  ページ： 235315.1-235315.5  発行年： 2015年06月 
JST資料番号： D0746A  ISSN： 1098-0121  CODEN： PRBMDO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *銅 ,  析出 ,  *結晶粒界 ,  *粒界析出 ,  *ケイ素 ,  Czochralski法 ,  相境界 ,  固相 ,  相
準シソーラス用語： *小角傾斜境界 ,  *結晶粒界析出 ,  *シリコン ,  結晶相

分類 (2件)： 組織的硬化現象  (WB01020C) ,  半導体の格子欠陥  (BK12040Q)

タイトルに関連する用語 (4件)： Si ,  境界 ,  Cu ,  析出