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J-GLOBAL ID：201502215489516060   整理番号：15A0763770

加湿アニール法による両親媒性高分子のラメラ構造化

著者 (6件)： 橋本侑宜 (山形大 大学院) ,  佐藤琢磨 (山形大 大学院) ,  松井淳 (山形大 大学院) ,  三ツ石方也 (東北大 多元物質科研) ,  永野修作 (名大 院) ,  長尾祐樹 (北陸先端大院大)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 64  号： 1  ページ： ROMBUNNO.3E09  発行年： 2015年05月12日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 加湿 ,  *焼なまし ,  熱処理 ,  *層状組織 ,  *両親媒性高分子 ,  ポリアクリルアミド

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (4件)： 加湿 ,  アニール ,  両親媒性高分子 ,  ラメラ構造