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J-GLOBAL ID：201502234946910619   整理番号：15A0435294

容量性RFプラズマ中の電子加熱に両極性電場が及ぼす影響

The effect of ambipolar electric fields on the electron heating in capacitive RF plasmas

著者 (5件)： SCHULZE J (West Virginia Univ., WV, USA) ,  DONKO Z (Wigner Res. Centre for Physics, Hungarian Acad. of Sci., Budapest, HUN) ,  DERZSI A (Wigner Res. Centre for Physics, Hungarian Acad. of Sci., Budapest, HUN) ,  KOROLOV I (Wigner Res. Centre for Physics, Hungarian Acad. of Sci., Budapest, HUN) ,  SCHUENGEL E (West Virginia Univ., WV, USA)
資料名： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Science and Technology)
巻： 24  号： 1  ページ： 015019,1-13  発行年： 2015年02月 
JST資料番号： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *プラズマ ,  *RF放電 ,  *加熱 ,  *電場 ,  計算機シミュレーション ,  プラズマ生成
準シソーラス用語： *容量結合プラズマ ,  *電子加熱 ,  *両極性電場 ,  PICシミュレーション ,  *確率的加熱

分類 (2件)： 気体放電  (BJ03020T) ,  プラズマ生成・加熱  (BJ02060E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 容量性 ,  RFプラズマ ,  電子加熱 ,  両極性電場