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J-GLOBAL ID：201502246594037721   整理番号：15A0448181

EUVマスクのアクティニック検査: AIMS EUVシステムインテグレーションでの最初の結果

Actinic review of EUV masks: First results from the AIMS EUV system integration

著者 (6件)： WEISS Markus R. (Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU) ,  HELLWEG Dirk (Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU) ,  PETERS Jan Hendrik (Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU) ,  PERLITZ Sascha (Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU) ,  GARETTO Anthony (Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU) ,  GOLDSTEIN Michael (SEMATECH, NY, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9048  号： Pt.1  ページ： 90480X.1-90480X.9  発行年： 2014年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大量生産でEUVリソグラフィーを利用するためには,EUVマスク検査装置などのインフラストラクチャが必要となる。特に,EUVマスクのアクティニック検査を行うために,計測システムの開発が重要である。Zeiss社とSEMATECH社では,EUVマスクインフラストラクチャコンソーシアムを作り,アクティニック検査システムを構築した。システムの現状を述べ,検査ツールを詳細に説明した。アクティニック検査のシステムインテグレーションを行い,EUV空中画像計測システム(AIMS-EUV)を開発した。AIMS-EUVシステムの最初の結果を示した。無欠陥のマスク製造にはアクティニック検査法が重要な役割を果たす。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  真空紫外線 ,  マスク ,  回路パターン形成 ,  極端紫外線 ,  *フォトマスク ,  システムインテグレーション ,  大量生産 ,  インフラストラクチャー ,  組織 ,  プロトタイプ ,  検査 ,  試験装置 ,  計測システム ,  システム ,  画像
準シソーラス用語： *EUVマスク ,  *EUVリソグラフィー ,  コンソーシアム ,  *マスク検査 ,  空中画像 ,  検査システム

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： EUVマスク ,  検査 ,  EUV ,  システムインテグレーション