アクチュエータを備えるリソグラフィ装置、およびアクチュエータを保護する方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-507460
公開番号（公開出願番号）：特表2015-519738
出願日： 2013年04月12日
公開日（公表日）： 2015年07月09日
要約：

【課題】システムに衝突保護部が設けられたリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置はシステムを備える。システムは、第1部(208)と、第2部(204)と、エネルギー吸収素子(210)とを備える。第2部は、第1部に対して移動するように構成される。システムは、該システムの動作モード中に第1部と第2部との間に位置するギャップ(216)を有する。エネルギー吸収素子は、システムの故障モードにおいて第1部および第2部が互いに衝突する場合に第1部と第2部との間のエネルギーを吸収するためのものである。エネルギー吸収素子は、ギャップの外側にある。【選択図】図2a

請求項（抜粋）：

システムを備えるリソグラフィ装置であって、該システムは、第1部と、前記第1部に対して移動する第2部であって、前記システムは、該システムの動作モード中に前記第1部と該第2部との間に位置するギャップを有する、第2部と、前記システムの故障モードにおいて前記第1部および前記第2部が互いに衝突する場合に前記第1部と前記第2部との間のエネルギーを吸収するためのエネルギー吸収素子と、を備え、前記エネルギー吸収素子は前記ギャップの外側にある、リソグラフィ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01L 21/68

FI (4件)：

H01L21/30 515G , G03F7/20 521 , H01L21/30 541L , H01L21/68 K

Fターム (22件)：

5F056EA14 , 5F131AA02 , 5F131AA03 , 5F131AA32 , 5F131BA13 , 5F131CA54 , 5F131CA55 , 5F131EA02 , 5F131EA14 , 5F131EA22 , 5F131EA27 , 5F131KA03 , 5F131KA16 , 5F131KA34 , 5F131KA40 , 5F131KA44 , 5F131KA54 , 5F131KB07 , 5F131KB12 , 5F131KB53 , 5F146CC01 , 5F146CC20

引用特許：

審査官引用 (8件)

ステージ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-168069 出願人：住友重機械工業株式会社
リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及びそれによって製造されたデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-144298 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
リソグラフィ投影装置に用いられる位置決め装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-403669 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

全件表示

前のページに戻る