特許
J-GLOBAL ID：201503001469661903
先細り流動床反応器及びその使用のためのプロセス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
杉村 憲司
, 山口 雄輔
, 田浦 弘達
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-529894
公開番号（公開出願番号）：特表2015-529185
出願日： 2013年08月26日
公開日（公表日）： 2015年10月05日
要約：
流動床反応器は、ガス分配器と、ガス分配器の上の先細り部分と、先細り部分の上の拡大先端部とを含む。ガス分配器は、流動床反応器から離れて延在する、生成物回収管を包囲する、複数の入口を画定する。流動床反応器は、ゲルダート群B粒子及び/又はゲルダート群D粒子等の比較的大きい粒子を流体化するためのプロセスにおいて有用であり、該粒子は、先細り部分中に全体的に又は部分的に存在する気泡流動床中に存在する。流動床反応器及びプロセスは、多結晶シリコンを製造するために使用され得る。
請求項（抜粋）：
流動床反応器で多結晶シリコンを調製するためのプロセスであって、
a.水素を含むガス及びシリコンモノマーを含むシリコン担持源ガスを、シリコン粒子を含有する気泡流動床へ送給することであって、前記気泡流動床の少なくとも一部が、前記流動床反応器の先細り部分中に存在し、前記先細り部分が、垂直から円錐角で上方及び外方に拡大する、送給することと、
b.シリコン粒子を、前記先細り部分の上の前記流動床反応器に送給することと、
c.前記流動床反応器を加熱し、それによって、前記シリコンモノマーの熱分解を引き起こして、前記シリコン粒子の表面上に多結晶シリコンを生成し、それによって、より大きい直径の粒子を生成することと、
d.前記流動床反応器から前記より大きい直径の粒子を除去することと、を含むプロセス。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (17件)：
4G072AA01
, 4G072BB05
, 4G072BB12
, 4G072GG03
, 4G072GG04
, 4G072HH04
, 4G072HH08
, 4G072HH09
, 4G072HH10
, 4G072JJ01
, 4G072JJ13
, 4G072JJ14
, 4G072MM01
, 4G072MM21
, 4G072NN27
, 4G072RR01
, 4G072RR17
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
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