特許
J-GLOBAL ID:201503002972752564

処理装置およびシールド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-549072
特許番号:特許第5827344号
出願日: 2012年10月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板保持部と、前記基板保持部によって基板が保持された際に前記基板の周囲を取り囲むように配置され前記基板の表面のうち膜が形成される領域を規定するシールドと、前記シールドを磁力によって保持するシールド保持部とを備え、前記基板に膜を形成する処理装置であって、 前記シールドは、第1極性を有する磁極が前記シールド保持部に向けて配置された複数の第1磁石と、第2極性を有する磁極が前記シールド保持部に向けて配置された複数の第2磁石とを有し、前記複数の第1磁石と前記複数の第2磁石とが前記シールドの中心に対して対称な位置に配置され、 前記シールド保持部は、前記複数の第2磁石との間で吸引力を発生するように、前記第1極性を有する磁極が前記シールドに向けて配置された複数の第3磁石と、前記複数の第1磁石との間で吸引力を発生するように、前記第2極性を有する磁極が前記シールドに向けて配置された複数の第4磁石とを有し、前記複数の第3磁石と前記複数の第4磁石とが前記シールド保持部の中心に対して対称な位置に配置され、 前記シールド保持部は、熱による前記シールドの変形を許容するように前記シールドを保持し、前記複数の第1磁石と前記複数の第4磁石との間に作用する磁力と前記複数の第2磁石と前記複数の第3磁石との間に作用する磁力とによって前記シールドの中心が前記シールド保持部の中心に位置決めされる、 ことを特徴とする処理装置。
IPC (2件):
C23C 14/00 ( 200 6.01) ,  C23C 16/44 ( 200 6.01)
FI (2件):
C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 J
引用特許:
審査官引用 (5件)
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