特許
J-GLOBAL ID：201503004575321568
EUV投影露光装置用ミラー機構、その操作方法、及びEUV投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
杉村 憲司
, 下地 健一
, 岡野 大和
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-523494
公開番号（公開出願番号）：特表2015-528134
出願日： 2013年07月16日
公開日（公表日）： 2015年09月24日
要約：
本発明にかかるミラー機構は、マイクロリソグラフィー用EUV投影露光装置のためのミラー機構であって、それぞれがEUVスペクトル域で反射性であるとともにEUV放射を当てることができる層(32)を有する複数のミラーを備え、かかる複数のミラーのうちの少なくとも一つのミラー(32)は、熱膨張係数が負である材料を含む少なくとも一つの層(36)を有することを特徴とする。さらに、本発明は、ミラー機構及び投影露光装置の操作方法にも関するものである。上述した少なくとも一つのミラーの熱膨張係数が負である少なくとも一つの層を狙った態様で局所的に加熱するために、少なくとも一つの熱源が配置されている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
EUV投影露光装置(200)用ミラー機構であって、該ミラー機構は、
EUVスペクトル域で反射性であるとともにEUV放射を適用することができる層(32; 52; 72; 112; 152; 172)と、本体(34; 54; 74; 114; 154; 174)とをそれぞれが有する複数のミラー(30; 50; 70; 110; 150; 170; 210-218, 224-234)を備え、前記複数のミラーのうちの少なくとも一つのミラー(30; 70; 110; 150; 170; 226)は、熱膨張係数が負である材料を含む少なくとも一つの層(36; 76; 118; 156; 178)を備え、さらに、
前記ミラー機構は、前記少なくとも一つのミラー(70; 110)の、熱膨張係数が負である前記少なくとも一つの層(76; 118)を局所的に狙った態様で加熱するための少なくとも一つの熱源(96; 126)を備える、
ことを特徴とする、ミラー機構。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F7/20 503
, G03F7/20 521
, G02B5/08 A
2H042DA01
, 2H042DA08
, 2H042DA12
, 2H042DA15
, 2H042DA18
, 2H042DB14
, 2H042DC04
, 2H042DE00
, 2H197DB10
, 2H197DB19
, 2H197DB23
, 2H197GA01
, 2H197GA10
, 2H197GA13
, 2H197GA21
, 2H197GA23
, 2H197HA03
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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