EUVリソグラフィ用の光学機構及び該光学機構を構成する方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：杉村憲司 , 下地健一 , 坪内伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-136845
公開番号（公開出願番号）：特開2013-095659
出願日： 2012年06月18日
公開日（公表日）： 2013年05月20日
要約：

【課題】温度の影響による変形を低減する、EUVリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。【解決手段】反射面31a及び第1ゼロ交差温度TZC1でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するTiO2ドープ石英ガラスから構成された基板32を備える第2ミラー22と、反射面及び第1ゼロ交差温度とは異なる第2ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するTiO2ドープ石英ガラスから構成された第2基板を備える第2光学素子とを備え、第1ゼロ交差温度における第1基板32の熱膨張率の勾配(ΔCTE1>)及び/又は第2ゼロ交差温度における第2基板の熱膨張率の勾配(ΔCTE2)は負の符号を有する光学機構に関する。【選択図】図2a

請求項（抜粋）：

EUVリソグラフィ用の光学機構であって、反射面(31a)及び第1ゼロ交差温度(TZC1)でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するTiO2ドープ石英ガラスから構成された第1基板(32)を備える第1光学素子(22)と、反射面(36a)及び前記第1ゼロ交差温度とは異なる第2ゼロ交差温度(TZC2)でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するTiO2ドープ石英ガラスから構成された第2基板(37)を備える第2光学素子(24)とを備え、前記第1ゼロ交差温度(TZC1)における前記第1基板(32)の熱膨張率の勾配(ΔCTE1)及び/又は前記第2ゼロ交差温度(TZC2)における前記第2基板(37)の熱膨張率の勾配(ΔCTE2)は、負の符号を有する光学機構。

IPC (6件)：

C03C 3/06 , C03B 20/00 , C03C 17/10 , G02B 19/00 , H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (7件)：

C03C3/06 , C03B20/00 K , C03C17/10 , G02B19/00 , H01L21/30 531A , H01L21/30 515D , G03F7/20 503

Fターム (81件)：

2H052BA02 , 2H052BA03 , 2H052BA12 , 2H097CA15 , 2H097GB01 , 2H097LA10 , 4G014AH00 , 4G059AA11 , 4G059AC05 , 4G059DA03 , 4G059DB04 , 4G062AA04 , 4G062BB02 , 4G062DA07 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EC01 , 4G062ED01 , 4G062EE01 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062FA01 , 4G062FB02 , 4G062FB03 , 4G062FB04 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062MM02 , 4G062NN16 , 4G062NN29 , 4G062NN30 , 4G062NN31 , 4G062NN35 , 5F146CB02 , 5F146CB45 , 5F146GA03 , 5F146GA21 , 5F146GA27 , 5F146GB02 , 5F146GB14 , 5F146GB15

引用特許：

審査官引用 (11件)

ゼロ転移温度周辺の熱膨張係数に応じて温度の上昇に対する傾きの符号が異なる材料で構成されたミラーを備えたEUV投影レンズ
公報種別：公表公報出願番号：特願2005-509784 出願人：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
TiO2を含有するシリカガラスおよびEUVリソグラフィ用光学部材
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-040513 出願人：旭硝子株式会社
荷電粒子光学系の軸合装置および荷電粒子光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-346836 出願人：株式会社ホロン

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