層状複水酸化物の粒子を含有するコーティング組成物で金属表面をコーティングする方法

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者： , , ,
代理人 (3件)：恩田誠 , 恩田博宣 , 本田淳
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-506233
公開番号（公開出願番号）：特表2015-520018
出願日： 2013年04月17日
公開日（公表日）： 2015年07月16日
要約：

本発明は、有機コーティング前に前処理組成物でコーティングするための組成物で、後続の有機コーティングを意図しない不動態化組成物で、前処理プライマー組成物で、プライマー組成物で、ペイント組成物で、またはエレクトロコーティング組成物で金属表面をコーティングする方法であって、各1つのコーティング組成物もしくはその組成物から生成されるコーティングが、一般式[1]:[M2+(1±0.5)-x(M3+,M4+)x(OH)2±0.75]An-x/n・mH2O[式中、M2+、M3+およびM4+はそれぞれ、ある種の二価、三価、四価カチオンであり、カチオンM3+が存在する必要はないかまたはカチオンM4+が存在する必要はなく、アニオンAおよび/または分子Aとのアセンブリを含む中性もしくは帯電分子Aは、ヒドロキシド、フルオリド、カーボネート、ナイトレート、サルフェート、クロメート、クロマイト、モリブデート、ホスホモリブデート、ホスフェート、ホスホネート、タングステート、バナデート、アゾール、カルボキシレートのアニオン、ドデシルベンゼン、フェノール化合物、アニオン界面活性剤および生体分子からなる群から選択される]を示す少なくとも1つの層状複水酸化物(LDH)相に基づいた粒子を含有し、および/または各1つのコーティング組成物もしくはその組成物から生成されるコーティングが、酸化物、複酸化物、複合酸化物、水酸化物、少なくとも1つのLDH相、さらなるアニオンAおよび分子Aからなる群から選択される物質の混合物を主としてベースとする、少なくとも部分的にか焼されたおよび/または部分的にもしくは全体的にか焼され次に再水和されたLDH粒子を含有する方法に関する。

請求項（抜粋）：

有機コーティング前に前処理組成物でコーティングするための組成物で、後続の有機コーティングを意図しない不動態化組成物で、前処理プライマー組成物で、プライマー組成物で、ペイント組成物で、またはエレクトロコーティング組成物で金属表面をコーティングする方法であって、各1つのコーティング組成物もしくはその組成物から生成されるコーティングが、一般式[1]、 [M2+(1±0.5)-x(M3+,M4+)x(OH)2±0.75]An-x/n・mH2O [1]、 [式中、M2+、M3+およびM4+は、Ca2+、Co2+、Cu2+、Fe2+、Mg2+、Mn2+、Ni2+、Zn2+、Al3+、Ce3+、Co3+、Cr3+、Fe3+、Ga3+、V3+、Si4+、Sn4+、Ti4+およびZr4+からなる群から選択されるそれぞれ二価、三価、四価カチオンであり、カチオンM3+が存在する必要はないかまたはカチオンM4+が存在する必要はなく、 xは、0.1〜0.5の範囲にある、三価対二価および三価金属カチオンの合計の比(M3++M4+)/(M2++M3++M4+)であり、 An-は、nが0.1〜100の範囲にある状態でインターカレートした化学種Aの全体負電荷を示し、これらのアニオンAおよび分子Aとのアセンブリを含む分子Aのうちの少なくとも一方は、ヒドロキシド、フルオリド、カーボネート、ナイトレート、サルフェート、クロメート、クロマイト、モリブデート、ホスホモリブデート、ホスフェート、ホスホネート、タングステート、バナデート、アゾール、ベンゾエート類、フマレート、ラクテート、オクタノエート、オキサレート、フタレート、サリチレート類およびスクシネート類のようなカルボキシレートのアニオン、ドデシルベンゼン、フェノール化合物、アニオン界面活性剤ならびにタンパク質およびキナルジックスのような生体分子からなる群から選択される] を示す少なくとも1つの層状複水酸化物(LDH)相に基づいた粒子を含有するか、各1つのコーティング組成物もしくはその組成物から生成されるコーティングが、酸化物、複酸化物、複合酸化物、水酸化物、少なくとも1つのLDH相、アニオンAおよび分子Aからなる群から選択される物質の混合物を主としてベースとする、少なくとも部分的にか焼されているか、および部分的にもしくは全体的にか焼された後に再水和されているか、のうちの少なくとも一方であるLDH粒子を含有する、のうちの少なくとも一方である、方法。

IPC (10件)：

B05D 7/24 , C09D 201/00 , C09D 7/12 , C09D 5/00 , C09D 183/04 , C09D 1/02 , C09D 185/00 , C09D 5/44 , C09D 5/08 , B05D 7/14

FI (11件)：

B05D7/24 303B , C09D201/00 , C09D7/12 , C09D5/00 D , C09D183/04 , C09D1/02 , C09D185/00 , C09D5/44 , C09D5/08 , B05D7/24 303J , B05D7/14 Z

Fターム (58件)：

4D075CA33 , 4D075DB01 , 4D075DC12 , 4D075EA10 , 4D075EB05 , 4D075EB11 , 4D075EB43 , 4D075EC02 , 4D075EC23 , 4D075EC31 , 4J038CG001 , 4J038DB001 , 4J038DB061 , 4J038DB381 , 4J038DG001 , 4J038DG302 , 4J038DL031 , 4J038DL081 , 4J038DM001 , 4J038HA206 , 4J038HA216 , 4J038HA246 , 4J038HA266 , 4J038HA326 , 4J038HA406 , 4J038HA446 , 4J038HA451 , 4J038HA536 , 4J038JB04 , 4J038JB31 , 4J038JB36 , 4J038JC18 , 4J038JC38 , 4J038KA03 , 4J038KA05 , 4J038KA08 , 4J038KA20 , 4J038MA08 , 4J038MA10 , 4J038NA03 , 4J038PA04 , 4J038PA14 , 4J038PA18 , 4J038PA19 , 4J038PA20 , 4J038PC02 , 4K044AA02 , 4K044BA10 , 4K044BA11 , 4K044BA12 , 4K044BA14 , 4K044BA21 , 4K044BB01 , 4K044BB03 , 4K044BC02 , 4K044CA11 , 4K044CA18 , 4K044CA53

引用特許：

審査官引用 (6件)

耐チッピング性の高い層の製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2010-533468 出願人：ビーエーエスエフコーティングスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング, ユニヴェルシテブレーズパスカル
プレコートメタル用プライマー組成物、塗膜形成方法及び塗装物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-328576 出願人：日本ペイント株式会社
亜硝酸イオン型ハイドロタルサイト粉末、その製造方法、防錆剤組成物および防錆塗料組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-155732 出願人：日本化学工業株式会社

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