特許
J-GLOBAL ID:201503008117963106

研磨用組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  佐藤 博幸 ,  小池 成
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-079748
公開番号(公開出願番号):特開2015-199839
出願日: 2014年04月08日
公開日(公表日): 2015年11月12日
要約:
【課題】高い研磨レートで、表面粗度に優れた基板を作製することのできる研磨用組成物を提供する。【解決手段】本発明の研磨用組成物は、過金属酸、脂肪酸遷移金属塩、砥粒及び水を含有してなる。過金属酸は、酸化還元電位0.7ボルト以上の金属酸化物と過酸化水素との作用で得られる化合物であることが好ましい。脂肪酸遷移金属塩は、過金属酸の分解を促進し過金属酸と研磨被表面との反応を促進し、触媒のような作用をしていると考えられる。本発明の研磨用組成物を用いて、例えば、炭化ケイ素基板を効率的に研磨することができる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
過金属酸、脂肪酸遷移金属塩、砥粒及び水を含有する研磨用組成物。
IPC (3件):
C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304
FI (4件):
C09K3/14 550Z ,  B24B37/00 H ,  H01L21/304 622D ,  C09K3/14 550D
Fターム (26件):
3C158AA07 ,  3C158CA01 ,  3C158CA05 ,  3C158CB01 ,  3C158CB03 ,  3C158CB05 ,  3C158CB10 ,  3C158DA02 ,  3C158DA12 ,  3C158DA17 ,  3C158EA11 ,  3C158ED02 ,  3C158ED23 ,  3C158ED26 ,  5F057AA03 ,  5F057AA14 ,  5F057AA28 ,  5F057BA12 ,  5F057BB09 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA07 ,  5F057EA08 ,  5F057EA15 ,  5F057EA21 ,  5F057EA32
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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