特許
J-GLOBAL ID：201503008628942654

マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置

発明者：
松本 裕史

松本 裕史 について


出願人/特許権者：
株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジー について


代理人 (3件)： 池上 徹真 ,  須藤 章 ,  松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-114526
公開番号（公開出願番号）：特開2015-228471
出願日： 2014年06月03日
公開日（公表日）： 2015年12月17日
要約：
【課題】データ転送エラーが生じた場合でも補完可能なマルチ荷電粒子ビームの描画方法を提供する。【解決手段】マルチ荷電粒子ビーム描画方法は、トラッキング制御を行いながら、各ビームの描画位置にマルチ荷電粒子ビームのうちONビームのそれぞれ対応するビームを照射する工程と、トラッキング制御を継続しながら、各ビームの描画位置を次の各ビームの描画位置にシフトする工程と、トラッキング制御を継続しながら、シフトされた各ビームの描画位置に対応するビームを照射する工程と、ビームを照射した後、トラッキング制御用のビーム偏向をリセットする工程と、を備え、トラッキング制御の開始からリセットまでのかかる各工程を1つの組として繰り返し、少なくとも1回の組におけるトラッキング開始からリセットまでのトラッキング時間が他の組におけるトラッキング時間よりも長くなることを特徴とする。【選択図】図12
請求項（抜粋）：
マルチ荷電粒子ビームの各ビームの描画位置をまとめて一緒にステージの移動に追従するようにビーム偏向によるトラッキング制御を開始して、前記トラッキング制御を行いながら、前記各ビームの描画位置にマルチ荷電粒子ビームのうちONビームのそれぞれ対応するビームを照射する工程と、 前記トラッキング制御を継続しながら、前記トラッキング制御のためのビーム偏向とは別に、前記マルチ荷電粒子ビームを偏向することによって前記各ビームの描画位置を次の各ビームの描画位置にシフトする工程と、 前記トラッキング制御を継続しながら、シフトされた各ビームの描画位置にマルチ荷電粒子ビームのうちONビームのそれぞれ対応するビームを照射する工程と、 前記トラッキング制御を継続しながら少なくとも1回以上シフトされた後の各ビームの描画位置にそれぞれ対応するビームを照射した後、前記トラッキング制御用のビーム偏向をリセットすることによって、トラッキング位置をステージ移動方向と逆方向に戻す工程と、 を備え、 前記トラッキング制御の開始からリセットまでの前記各工程を組として、前記組を予め設定された回数繰り返すことによって、所定領域の描画を完了させ、 前記回数の組うち、少なくとも1回の組におけるトラッキング開始からリセットまでのトラッキング時間が他の組におけるトラッキング時間よりも長くなることを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01J 37/305
FI (3件)：
H01L21/30 541W ,  H01L21/30 541J ,  H01J37/305 B
Fターム (6件)：
5C034BB04 ,  5C034BB10 ,  5F056AA07 ,  5F056CA28 ,  5F056CB15 ,  5F056CD01
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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