特許
J-GLOBAL ID:201503012928650520
磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果素子の製造方法及び磁気メモリ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (11件):
蔵田 昌俊
, 福原 淑弘
, 野河 信久
, 峰 隆司
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 井関 守三
, 井上 正
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-055384
公開番号(公開出願番号):特開2015-179694
出願日: 2014年03月18日
公開日(公表日): 2015年10月08日
要約:
【課題】 磁気抵抗効果素子の特性を向上する。【解決手段】本実施形態に関わる磁気抵抗効果素子は、第1及び第2の磁性層13,15と、第1及び第2の磁性層との間に設けられた中間層14と、第1の磁性層13の側面上に設けられた積層構造の絶縁体20と、を含み、絶縁体20は、第1の磁性層13の側面上に設けられ、第1の磁性層13内を構成する第1の磁性元素の原子番号より大きい原子番号を有する第1の元素を主成分として含む第1の保護膜200と、第1の保護膜200の第1の磁性層側とは反対側に設けられ、第1の磁性元素の原子番号より小さい原子番号を有する第2の元素を主成分として含む第2の保護膜210と、を含む。【選択図】図2
請求項(抜粋):
磁化の向きが可変な第1の磁性層と、
磁化の向きが不変な第2の磁性層と、
前記第1の磁性層と前記第2の磁性層との間に設けられた中間層と、
前記第1の磁性層の側面上に設けられた積層構造の側壁保護膜と、
を具備し、
前記側壁保護膜は、
前記第1の磁性層の側面上に設けられ、前記第1の磁性層を構成する第1の磁性元素の原子番号より大きい原子番号を有する第1の元素を主成分として含む第1の保護膜と、
前記第1の保護膜の前記第1の磁性層側とは反対側に設けられ、前記第1の磁性元素の原子番号より小さい原子番号を有する第2の元素を主成分として含む第2の保護膜と、
を含むことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (8件):
H01L 43/08
, H01L 29/82
, H01L 43/10
, H01L 43/12
, H01L 21/824
, H01L 27/105
, H01L 21/316
, H01L 21/318
FI (8件):
H01L43/08 H
, H01L29/82 Z
, H01L43/08 Z
, H01L43/10
, H01L43/12
, H01L27/10 447
, H01L21/316 M
, H01L21/318 M
Fターム (57件):
4M119AA03
, 4M119AA06
, 4M119BB01
, 4M119CC05
, 4M119DD06
, 4M119DD17
, 4M119DD24
, 4M119DD33
, 4M119DD34
, 4M119DD45
, 4M119DD55
, 4M119EE23
, 4M119EE27
, 4M119FF05
, 4M119FF15
, 4M119FF16
, 4M119FF17
, 4M119HH01
, 4M119HH04
, 4M119HH07
, 4M119JJ02
, 4M119JJ13
, 4M119JJ20
, 5F058BD01
, 5F058BD05
, 5F058BD12
, 5F058BF12
, 5F058BF13
, 5F058BJ03
, 5F092AA01
, 5F092AA07
, 5F092AB08
, 5F092AC12
, 5F092AD03
, 5F092AD23
, 5F092AD25
, 5F092BB10
, 5F092BB22
, 5F092BB23
, 5F092BB33
, 5F092BB35
, 5F092BB36
, 5F092BB43
, 5F092BB53
, 5F092BB55
, 5F092BC03
, 5F092BC04
, 5F092BC07
, 5F092BC12
, 5F092BC13
, 5F092BC42
, 5F092BE25
, 5F092BE27
, 5F092CA09
, 5F092CA14
, 5F092CA15
, 5F092CA17
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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