特許
J-GLOBAL ID：200903016570421076
ラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-064337
公開番号（公開出願番号）：特開2009-221111
出願日： 2008年03月13日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として、特に現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂製造用の単量体の提供。【解決手段】一般式(1)で示されるラクトン含有化合物。(R1はH、F、メチル基又はトリフルオロメチル基。R2、R3はH、1価炭化水素基。又は、R2、R3は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。R4はH又はCO2R5。R5はハロゲン原子又は酸素原子を有していてもよい1価炭化水素基。Wは、CH2、O又はSを示し、WがCH2の場合、R4はCO2R5。WがO又はSの場合、R4はH又はCO2R5。k1は3〜5の整数。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示されるラクトン含有化合物。
IPC (3件)：
C07D 307/00
, C07D 493/18
, C08F 20/28
C07D307/00
, C07D493/18
, C08F20/28
4C037AA02
, 4C071AA03
, 4C071BB02
, 4C071CC12
, 4C071EE05
, 4C071FF15
, 4C071HH05
, 4C071HH09
, 4J100AJ02S
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100BA03R
, 4J100BA03S
, 4J100BA11P
, 4J100BA11S
, 4J100BA15P
, 4J100BA20P
, 4J100BA20S
, 4J100BB07S
, 4J100BB18S
, 4J100BC03P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC03S
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC12Q
, 4J100BC53P
, 4J100BC53Q
, 4J100BC53S
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100JA38
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (18件)
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