特許
J-GLOBAL ID：201503014899493316

基板処理方法及び基板処理装置

発明者：
加藤 寿

加藤 寿 について

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佐藤 潤

佐藤 潤 について

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村田 昌弘

村田 昌弘 について

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大下 健太郎

大下 健太郎 について

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菅野 智子

菅野 智子 について

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三浦 繁博

三浦 繁博 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-206571
公開番号（公開出願番号）：特開2015-165549
出願日： 2014年10月07日
公開日（公表日）： 2015年09月17日
要約：
【課題】ローディング効果の発生を抑制し、所望の膜質の薄膜を形成する基板処理方法を提供する。【解決手段】基板に、第1の処理ガスを供給する工程S100と、第1の処理ガスが供給された基板に、分離ガスを供給する工程S110と、分離ガスが供給された基板に、第1のプラズマ発生手段と回転テーブルとの間の距離が第1の距離の状態で、第1のプラズマ処理用ガスを供給する工程S120と、第1のプラズマ処理用ガスが供給された基板に、第2のプラズマ発生手段と回転テーブルとの間の距離が第1の距離より小さい第2の距離の状態で、第2のプラズマ処理用ガスを供給する工程S130と、第2のプラズマ処理用ガスが供給された基板に、分離ガスを供給する工程S140と、を有する。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
真空容器と、 前記真空容器内に回転可能に設けられ、表面に基板を載置する基板載置部が形成されている、回転テーブルと、 前記基板の表面に吸着する第1の処理ガスを供給する、第1の処理ガス供給手段と、 前記基板の表面に第1のプラズマ処理用ガス及び第2のプラズマ処理用ガスを各々供給する、第1のプラズマ処理用ガス供給手段及び第2のプラズマ処理用ガス供給手段と、 前記第1の処理ガスと前記第1のプラズマ処理用ガスとを分離する分離ガスを供給する、第1の分離ガス供給手段と、 前記第1の処理ガスと前記第2のプラズマ処理用ガスとを分離する分離ガスを供給する、第2の分離ガス供給手段と、 前記第1のプラズマ処理用ガス及び前記第2のプラズマ処理用ガスを各々プラズマ化する、第1のプラズマ発生手段及び第2のプラズマ発生手段と、 を有し、 前記第1の処理ガス供給手段から、前記回転テーブルの回転方向において、第1の分離ガス供給手段、第1のプラズマ処理用ガス供給手段、第2のプラズマ処理用ガス供給手段、第2の分離ガス供給手段とがこの順番に設けられた基板処理装置を用いた基板処理方法であって、 前記基板に、前記第1の処理ガスを供給する工程と、 前記第1の処理ガスが供給された前記基板に、前記分離ガスを供給する工程と、 前記分離ガスが供給された前記基板に、前記第1のプラズマ発生手段と前記回転テーブルとの間の距離が第1の距離の状態で、前記第1のプラズマ処理用ガスを供給する工程と、 前記第1のプラズマ処理用ガスが供給された前記基板に、前記第2のプラズマ発生手段と前記回転テーブルとの間の距離が前記第1の距離より小さい第2の距離の状態で、前記第2のプラズマ処理用ガスを供給する工程と、 前記第2のプラズマ処理用ガスが供給された前記基板に、前記分離ガスを供給する工程と、 を有する、基板処理方法。
IPC (4件)：
H01L 21/318 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/455 ,  C23C 16/50
FI (4件)：
H01L21/318 B ,  H01L21/31 C ,  C23C16/455 ,  C23C16/50
Fターム (62件)：
4K030AA02 ,  4K030AA13 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030BA40 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030EA06 ,  4K030FA04 ,  4K030GA06 ,  4K030GA12 ,  4K030HA01 ,  4K030LA02 ,  4K030LA15 ,  5F045AA08 ,  5F045AA15 ,  5F045AB32 ,  5F045AC05 ,  5F045AC07 ,  5F045AC08 ,  5F045AC09 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AE19 ,  5F045BB01 ,  5F045BB02 ,  5F045BB03 ,  5F045BB17 ,  5F045BB19 ,  5F045DC66 ,  5F045DP14 ,  5F045DP27 ,  5F045EB10 ,  5F045EE14 ,  5F045EE19 ,  5F045EF03 ,  5F045EF08 ,  5F045EF09 ,  5F045EF13 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH11 ,  5F045EK07 ,  5F058BA06 ,  5F058BA09 ,  5F058BA10 ,  5F058BC08 ,  5F058BF02 ,  5F058BF07 ,  5F058BF24 ,  5F058BF27 ,  5F058BF30 ,  5F058BF74 ,  5F058BG02 ,  5F058BG03 ,  5F058BG04 ,  5F058BH07
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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