特許
J-GLOBAL ID：201303088756938412
成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-026330
公開番号（公開出願番号）：特開2013-165116
出願日： 2012年02月09日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
要約：
【課題】互いに反応する処理ガスを真空容器内に順番に供給して基板の表面に反応生成物を積層すると共に基板に対してプラズマ処理を行うにあたり、処理ガス同士が真空容器内で互いに混ざり合うことを阻止しながら、小型の真空容器を構成すること。【解決手段】ウエハWに対してプラズマ処理を行うにあたり、真空容器1の天板11を上下方向に貫通するように、下方側が開口するプラズマ発生容器200を配置する。そして、このプラズマ発生容器200における天板11よりも上方側の上方容器201の内部にアンモニアガスを吐出するための主プラズマ発生用ガスノズル32を収納すると共に、当該上方容器201の周囲にアンテナ83を巻解する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
真空容器内にて互いに反応する複数種類の処理ガスを順番に供給するサイクルを複数回行って、反応生成物を積層することにより基板に薄膜を成膜する成膜装置において、
前記真空容器内に設けられ、基板を載置する基板載置領域がその一面側に形成されると共に、この基板載置領域を公転させるための回転テーブルと、
この回転テーブルの周方向に互いに離間した複数の処理領域に対して互いに異なる処理ガスを夫々供給するための複数の処理ガス供給部と、
各処理領域の雰囲気を分離するために、各処理領域の間に形成された分離領域に対して分離ガスを供給する分離ガス供給部と、
前記真空容器内の雰囲気を真空排気するための排気口と、
基板に対してプラズマ処理を行うためのプラズマ処理部と、を備え、
このプラズマ処理部は、
プラズマを発生させるプラズマ発生空間を区画形成し、下部側にプラズマの吐出口が形成された第1の囲み部分と、
前記プラズマ発生空間に処理ガスを供給するプラズマ発生用ガス供給部と、
前記プラズマ発生空間の処理ガスを活性化するための活性化部と、
前記吐出口から吐出するプラズマを前記回転テーブルの一面側に案内し、前記回転テーブルの中心部側から外縁部側に亘って伸びる案内空間を形成するために、前記第1の囲み部分の下方側に設けられた第2の囲み部分と、を備えたことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/31 B
, H01L21/31 C
, C23C16/509
4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030AA16
, 4K030AA18
, 4K030BA48
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA03
, 4K030FA01
, 4K030GA06
, 4K030HA01
, 4K030LA15
, 5F045AA15
, 5F045AB32
, 5F045AB33
, 5F045AC05
, 5F045AC07
, 5F045AC11
, 5F045AC12
, 5F045DP14
, 5F045DP27
, 5F045EE19
, 5F045EE20
, 5F045EF13
, 5F045EH11
, 5F045EH18
, 5F045EK07
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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