特許

J-GLOBAL ID：201503015393409127

活性化グラフェンモノリスおよびその製造方法

発明者： 金子 克美 ,  王 書文
出願人/特許権者： 国立大学法人信州大学
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  蛯谷 厚志 ,  小林 良博 ,  田崎 豪治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-102752
公開番号（公開出願番号）：特開2015-218085
出願日： 2014年05月16日
公開日（公表日）： 2015年12月07日
要約：

【課題】高比表面積で、分子吸着速度が大きく、電気伝導性および熱伝導性に優れたグラフェンモノリスを提供する。【解決手段】BET比表面積が500m2/g以上である活性化グラフェンモノリス。酸化グラフェンのコロイド溶液を、一方向凍結乾燥することにより酸化グラフェンモノリスを得、ついでこの酸化グラフェンモノリスを還元処理して、グラフェンモノリスを得、さらに賦活処理することにより活性化グラフェンモノリスを製造することにより得られる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

BET比表面積が500m2/g以上である活性化グラフェンモノリス。

IPC (2件)：

C01B 31/02 ,  C01B 31/12

FI (2件)：

C01B31/02 101Z ,  C01B31/12

Fターム (29件)：

4G146AA01 ,  4G146AA06 ,  4G146AB05 ,  4G146AB07 ,  4G146AC04A ,  4G146AC04B ,  4G146AC09A ,  4G146AC09B ,  4G146AC10A ,  4G146AC10B ,  4G146AC20A ,  4G146AC20B ,  4G146AC28B ,  4G146AD20 ,  4G146AD22 ,  4G146AD23 ,  4G146AD28 ,  4G146AD31 ,  4G146AD35 ,  4G146BA02 ,  4G146BD10 ,  4G146CB02 ,  4G146CB10 ,  4G146CB11 ,  4G146CB12 ,  4G146CB14 ,  4G146CB32 ,  4G146CB34 ,  4G146CB37

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 多孔質炭素鋳物の製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-512437   出願人：マックス-プランク-ゲゼルシャフトツアフェルデルンクデアヴィッセンシャフテンエー.ファウ.
• 多孔性伝導カーボン物質とその使用
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-512475   出願人：マックス-プランク-ゲゼルシャフトツアフェルデルンクデアヴィッセンシャフテンエー.ファウ.
• 多孔質グラフェン材料、その製造方法、及び電極材料としての応用
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2013-546552   出願人：海洋王照明科技股ふん有限公司
• 高密度高硬度のグラフェン多孔質炭素材料、その製造方法並びにその使用
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2015-523381   出願人：清華大学深セン研究生院

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Activation routes for high surface area graphene monoliths from graphene oxide colloids