特許
J-GLOBAL ID:201503016284647049

半導体装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-049256
公開番号(公開出願番号):特開2013-187240
特許番号:特許第5756041号
出願日: 2012年03月06日
公開日(公表日): 2013年09月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 モノリシックICに組み込まれるダイオードであって、 溝部が設けられている半導体層と、第1絶縁層と、抵抗性フィールドプレートと、を備えており、 前記半導体層は、上面部に設けられているカソード領域と、上面部に設けられているとともに前記カソード領域から離れて設けられているアノード領域と、前記カソード領域と前記アノード領域との間に設けられているドリフト領域と、を有しており、 前記第1絶縁層は、前記半導体層の上面に設けられており、 前記抵抗性フィールドプレートは、前記第1絶縁層の上面に設けられており、一端が前記カソード領域に電気的に接続されており、他端が前記アノード領域に電気的に接続されており、 前記ドリフト領域は、前記半導体層のうちの前記溝部に対応する範囲に配置されており、 前記第1絶縁層と前記抵抗性フィールドプレートは、前記溝部の内部に設けられている、ダイオード。
IPC (4件):
H01L 29/861 ( 200 6.01) ,  H01L 29/868 ( 200 6.01) ,  H01L 21/329 ( 200 6.01) ,  H01L 29/06 ( 200 6.01)
FI (6件):
H01L 29/91 L ,  H01L 29/91 B ,  H01L 29/91 D ,  H01L 29/91 E ,  H01L 29/06 301 F ,  H01L 29/06 301 M
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 高耐圧半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-166419   出願人:株式会社東芝
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2009-232421   出願人:株式会社デンソー
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-029716   出願人:株式会社東芝
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審査官引用 (4件)
  • 高耐圧半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-166419   出願人:株式会社東芝
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2009-232421   出願人:株式会社デンソー
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-029716   出願人:株式会社東芝
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