特許
J-GLOBAL ID：201503017273052708

基板、特にプレス板をプラズマコーティングする装置及び方法

発明者：
アンドレアス ゲベシュバー

アンドレアス ゲベシュバー について

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ダニエル ハイム

ダニエル ハイム について

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ヨハン ライマー

ヨハン ライマー について

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トマス ミュラー

トマス ミュラー について

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ミヒャエル プロシェク

ミヒャエル プロシェク について

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オットー シュタドラー

オットー シュタドラー について

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ヘルベルト ステーリ

ヘルベルト ステーリ について


出願人/特許権者：
ベルンドルフ ヒューク バント-ウント プレシュブレヒテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

ベルンドルフ ヒューク バント-ウント プレシュブレヒテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング について


代理人 (7件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  出野 知 ,  蛯谷 厚志 ,  高橋 正俊 ,  胡田 尚則
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-525690
公開番号（公開出願番号）：特表2015-531820
出願日： 2013年08月06日
公開日（公表日）： 2015年11月05日
要約：
真空室(3)と、真空室(3)内に配置された電極(400〜409)とを含む、基板(2)、特にプレス板をプラズマコーティングするための装置(100〜103)が提供され、前記電極はセグメント化され、電極セグメント(500〜512)のそれぞれは電気エネルギー源(700〜702)に対する固有の接続部(6)を備える。さらに、上記装置(100〜103)を運転するための方法が提供され、前記方法においてコーティングすべき基板(2)に向い合わせに上記電極(400〜409)が位置決めされ、1つの電極セグメント(500〜512)に割当てられた少なくとも1つのエネルギー源(700〜706)が作動される。さらに、プラズマ励起化学気相成長を基板(2)に生じさせるガスが導入される。
請求項（抜粋）：
真空室(3)と、前記真空室内に配置された電極(400〜409)とを含み、前記電極は運転時に基板(2)に対して実質的に平行に、かつコーティングすべき前記基板の面に向い合わせに位置決めされる、基板(2)をプラズマコーティングするための装置(100〜103)において、 前記電極(400〜409)はセグメント化され、かつ前記電極セグメント(500〜512)のそれぞれは電気エネルギー源(700〜702)に対する固有の接続部(6)を備えることを特徴とする装置(100〜103)。
IPC (2件)：
C23C 16/503 ,  B32B 9/00
FI (2件)：
C23C16/503 ,  B32B9/00 A
Fターム (19件)：
4F100AA19B ,  4F100AA37B ,  4F100AK01A ,  4F100AP00A ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100DE01B ,  4F100DG10A ,  4F100EH66B ,  4F100EJ61 ,  4F100GB07 ,  4F100JK12B ,  4K030CA02 ,  4K030CA17 ,  4K030FA01 ,  4K030JA16 ,  4K030JA17 ,  4K030KA14 ,  4K030KA15
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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