位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスク

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤村康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-139879
公開番号（公開出願番号）：特開2013-254206
特許番号：特許第5758448号
出願日： 2013年07月03日
公開日（公表日）： 2013年12月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ArFエキシマレーザー露光光が適用される位相シフトマスクを作製するために用いられる位相シフトマスクブランクであって、透光性基板上に、光半透過膜を備え、前記光半透過膜は、遷移金属、ケイ素及び窒素を主成分とする不完全窒化物膜からなり、前記光半透過膜の遷移金属とケイ素との間における遷移金属の含有比率が5%未満であり、前記光半透過膜の窒素の含有量は、40原子%以上47原子%以下であることを特徴とする位相シフトマスクブランク。

IPC (2件)：