特許
J-GLOBAL ID：200903073091917761
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-102427
公開番号（公開出願番号）：特開2005-292164
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【解決手段】 露光光に対して透明な基板上に、主に透過率を調整する遮光性層と、主に位相差を調整する透明性層とが交互に積層され、かつ最表面層が透明性層である多層で構成されると共に、遮光性層が、構成元素としてSiと、Moである第1金属成分と、Zr、Hf又はその両方である第2金属成分とを含有するハーフトーン型位相シフト膜を設けたハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びこれを用いたパターン転写方法。【効果】 F2レーザ等の短波長露光光による露光における位相差と透過率とを満足しつつ、ハーフトーン型位相シフトマスクの製造工程やそれを用いたパターン転写工程において問題となるエッチング特性及び速度、導電率(シート抵抗)、薬液耐性、検査波長における透過率などの諸特性について、その要求を実用上十分満足する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
露光光に対して透明な基板上に位相差及び透過率を調整したハーフトーン型位相シフト膜を設けたハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクであって、上記ハーフトーン型位相シフト膜が、主に透過率を調整する少なくとも1層の遮光性層と、主に位相差を調整する少なくとも1層の透明性層とが交互に積層され、かつ最表面層が透明性層である多層で構成されると共に、上記遮光性層が、構成元素としてSiと、Moである第1金属成分と、Zr、Hf又はその両方である第2金属成分とを含有することを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BB14
, 2H095BC04
, 2H095BC05
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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