特許
J-GLOBAL ID：201503018932875179

窒素及びホウ素でドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル

発明者：
シュヴァブ,マティアス ゲオルグ

シュヴァブ,マティアス ゲオルグ について

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ミューレン,クラウス

ミューレン,クラウス について

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フェン,シンリヤン

フェン,シンリヤン について

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ウー,チョン-ショワイ

ウー,チョン-ショワイ について


出願人/特許権者：
ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア

ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア について

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マクス-プランク-ゲゼルシャフト、ツール、フェルデルング、デァ、ヴィセンシャフテン、イー、ファウ

マクス-プランク-ゲゼルシャフト、ツール、フェルデルング、デァ、ヴィセンシャフテン、イー、ファウ について


代理人 (1件)： 江藤 聡明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-560475
公開番号（公開出願番号）：特表2015-526364
出願日： 2013年02月26日
公開日（公表日）： 2015年09月10日
要約：
本発明は、ドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル、前記エアロゲルの製造方法及び、例えば、電極又は触媒としての、前記エアロゲルの使用方法に関する。さらに、本発明は電極、全固体スーパーキャパシタ(ASSS)又は前記エアロゲルを原料とする触媒に関する。本発明はまた、出発物質としてグラフェンオキシドを使用するドープされたグラフェンを原料とするエアロゲルの製造における中間体として得ることのできるドープされたグラフェンに関する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
窒素及びホウ素でドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル。
IPC (3件)：
C01B 31/02 ,  H01M 4/90 ,  H01G 11/32
FI (3件)：
C01B31/02 101Z ,  H01M4/90 X ,  H01G11/32
Fターム (26件)：
4G146AA01 ,  4G146AA17 ,  4G146AB10 ,  4G146AC19B ,  4G146AC27A ,  4G146AD23 ,  4G146AD35 ,  4G146BA02 ,  4G146BB03 ,  4G146BB07 ,  4G146CB10 ,  4G146CB12 ,  4G146CB13 ,  4G146CB20 ,  4G146CB32 ,  5E078AB02 ,  5E078AB03 ,  5E078AB06 ,  5E078BA18 ,  5E078BA27 ,  5E078BA30 ,  5E078BA71 ,  5H018AA10 ,  5H018EE06 ,  5H018HH03 ,  5H018HH05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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