特許
J-GLOBAL ID:201503020840717636
形状測定装置、姿勢制御装置、構造物製造システム、及び、形状測定方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-001296
公開番号(公開出願番号):特開2015-129680
出願日: 2014年01月08日
公開日(公表日): 2015年07月16日
要約:
【課題】被測定物表面の形状による測定誤差を低減し、精度よく形状測定を行うことができる形状測定装置、姿勢制御装置、構造物製造システム、及び、形状測定方法を提供する。【解決手段】形状測定装置は、被測定物表面21上の異なる位置に複数の光を照明光学系112により照射する照明部11と、複数の光が照射されている前記被測定物20の像を照射方向とは異なる方向にある撮像光学系122を用いて撮影する撮像部12と、撮像部12に撮影された画像における複数の光の像のそれぞれの位置に基づいて、照明部11又は撮像部12に対する被測定物20の相対的な向きを制御する制御信号を送信する制御部と、複数の光の少なくとも一つが照射されている被測定物表面21の形状を演算する形状演算部と、を有する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
被測定物表面上の異なる位置に複数の光を照明光学系により照射する照明部と、
前記複数の光が照射されている前記被測定物の像を照射方向とは異なる方向にある撮像光学系を用いて撮影する撮像部と、
前記撮像部に撮影された画像における前記複数の光の像のそれぞれの位置に基づいて、前記照明部又は前記撮像部に対する前記被測定物の相対的な向きを制御する制御信号を送信する制御部と、
前記複数の光の少なくとも一つが照射されている前記被測定物表面の形状に相当する形状データを演算する形状演算部と、を有する形状測定装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (33件):
2F065AA35
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065DD04
, 2F065FF01
, 2F065FF02
, 2F065FF04
, 2F065FF09
, 2F065FF15
, 2F065GG06
, 2F065GG07
, 2F065HH04
, 2F065HH05
, 2F065HH12
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL08
, 2F065LL12
, 2F065LL28
, 2F065LL30
, 2F065LL53
, 2F065MM07
, 2F065PP04
, 2F065PP13
, 2F065PP22
, 2F065QQ25
, 2F065QQ27
, 2F065QQ28
, 2F065QQ29
, 2F065QQ31
, 2F065SS12
, 2F065SS13
, 2F065SS15
引用特許: