グラファイト薄膜の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山川政樹 , 山川茂樹 , 小池勇三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-025925
公開番号（公開出願番号）：特開2013-163600
特許番号：特許第5715075号
出願日： 2012年02月09日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理室の内部に基板を配置して前記処理室内を分子流領域の圧力に減圧する第1工程と、エチレンガスを前記処理室の内部で電圧の印加により加熱したフィラメントからなる分解手段を通過させることで分解して前記基板の上に送出し、前記基板の表面にグラフェンの層を形成する第2工程とを少なくとも備えることを特徴とするグラファイト薄膜の製造方法。

IPC (1件)：