特許
J-GLOBAL ID：201503038994042017
脂質平面膜を形成するための貫通孔を有するガラス基板、およびその製造方法と用途
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
高島 一
, 土井 京子
, 鎌田 光宜
, 田村 弥栄子
, 山本 健二
, 村田 美由紀
, 小池 順造
, 當麻 博文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-155692
公開番号（公開出願番号）：特開2015-024936
出願日： 2013年07月26日
公開日（公表日）： 2015年02月05日
要約：
【課題】長時間安定で、高電位負荷に対する高い耐性を有し、かつ小面積の脂質平面膜を誰にでも確実に形成できる脂質平面膜形成用のガラス基板を提供する。【解決手段】ガラス基板1の一方の主面1aに、該面を覆う耐ブラスト性のレジスト層2を設け、該レジスト層2には、ガラス基板素材に形成すべき貫通孔1hの位置に開口部2hが設けられ、ガラス基板1に対して、レジスト層2の上から投射材を吹き付けるショットブラストを行い、該ガラス基板1に対して該レジスト層2の開口部2hの位置に脂質平面膜形成用の貫通孔1hを形成し、かつ好ましくはショットブラスト工程よりも後に、該貫通孔1hの開口の周囲に対して高電圧パルス放電処理を施し、それにより、ショットブラストに起因して該貫通孔の開口の周囲に生じていたバリを除去し、バリを除去する工程よりも後に、ガラス基板1の該貫通孔1hの開口の周囲を疎水性材料で被覆する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
脂質平面膜を形成するための貫通孔を有するガラス基板の製造方法であって、
ガラス基板素材の一方の主面である第1面に、該面を覆う耐ブラスト性のレジスト層を設けるレジスト層配置工程を有し、該レジスト層には、ガラス基板素材に形成すべき貫通孔の位置に開口部が設けられ、該開口部内にはガラス基板素材の第1面が露出しており、
前記ガラス基板素材に対して、前記レジスト層の上から投射材を吹き付けるショットブラストを行い、該ガラス基板素材に対して該レジスト層の開口部の位置に脂質平面膜形成用の貫通孔を形成するショットブラスト工程を有する、
前記ガラス基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
2G045AA40
, 4G059AA08
, 4G059AB06
, 4G059AB09
, 4G059AC30
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
