液処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上俊夫 , 瀧澤宣明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-225380
公開番号（公開出願番号）：特開2015-088598
出願日： 2013年10月30日
公開日（公表日）： 2015年05月07日
要約：

【課題】ミストの発生を抑制しつつ処理液をカップへ向けて排出することが可能な液処理装置を提供する。【解決手段】処理液供給部40から、回転する基板Wに処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、鉛直軸周りに回転自在に構成された基板保持部31は、基板Wを水平に吸着保持するための保持面311を備える。ガイド部34は、基板保持部31と一体に形成されると共に、当該基板保持部31に保持された基板Wの周囲に配置され、基板Wの周縁部の上面の高さと同じか、この高さよりも低い高さ位置に設けられ、基板Wの上面を流れてきた処理液を案内するための案内面347を備える。回転カップ35は、基板保持部31と共に一体的に回転し、基板保持部31の外方に設けられたカップ50a〜50cへ向けて、ガイド部34との間で処理液を案内する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

回転する基板に処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、基板を水平に吸着保持するための保持面を備えた基板保持部と、前記基板保持部を鉛直軸周りに回転させるための回転駆動部と、前記基板から振り切られた処理液を受けるカップと、前記基板保持部に保持された基板の上方から処理液を供給する処理液供給部と、前記基板保持部と一体に形成されると共に、当該基板保持部に保持された基板の周囲に配置され、前記基板の周縁部の上面の高さと同じか、この高さよりも低い高さ位置に設けられ、処理液を案内する案内面を備えるガイド部と、前記基板保持部と共に一体的に回転し、前記ガイド部との間で前記カップへ向けて処理液を案内する回転カップと、を備えたことを特徴とする液処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 , H01L 21/306 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L21/304 643A , H01L21/304 648K , H01L21/306 R , H01L21/30 572B

Fターム (31件)：

5F043DD13 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE09 , 5F043EE32 , 5F043GG10 , 5F146MA03 , 5F146MA10 , 5F157AA17 , 5F157AA73 , 5F157AA77 , 5F157AB02 , 5F157AB16 , 5F157AB33 , 5F157AB47 , 5F157AB90 , 5F157AC01 , 5F157AC26 , 5F157BB11 , 5F157BB42 , 5F157BC07 , 5F157BH18 , 5F157CB01 , 5F157CB13 , 5F157CF34 , 5F157CF66 , 5F157DB02 , 5F157DB17 , 5F157DB37 , 5F157DB51 , 5F157DC90

引用特許：

審査官引用 (3件)

液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-173580 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-062946 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-079913 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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