描画装置及び描画方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：三浦邦夫 , 三浦邦陽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-209839
公開番号（公開出願番号）：特開2015-075512
出願日： 2013年10月07日
公開日（公表日）： 2015年04月20日
要約：

【課題】被描画体の傾斜形状の描画領域に対してパターンを描画する際に、傾斜描画領域にパターン光の焦点を合わせてパターンの解像度を高め、パターンの変形を防止し、傾斜描画領域のレジスト膜にパターン光を垂直に入射させてパターンの解像度を高めることができる描画装置及び描画方法を得る。【解決手段】光変調素子により描画光を被描画体に照射し、前記被描画体を前記描画光に対して連続的に走査しながら前記被描画体にパターンを描画する描画装置であって、前記被描画体を保持する保持手段と、前記保持手段によって保持された前記被描画体の被描画面の傾きを測定する測定手段と、前記保持手段の傾きを調整する傾き調整手段と、前記測定手段の測定結果に応じて、前記描画光が前記被描画体の被描画面に略垂直に入射するように、前記傾き調整手段を制御する傾き制御手段と、を備えることを特徴とする描画装置。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

光変調素子により描画光を被描画体に照射し、前記被描画体を前記描画光に対して連続的に走査しながら前記被描画体にパターンを描画する描画装置であって、前記被描画体を保持する保持手段と、前記保持手段によって保持された前記被描画体の被描画面の傾きを測定する測定手段と、前記保持手段の傾きを調整する傾き調整手段と、前記測定手段の測定結果に応じて、前記描画光が前記被描画体の被描画面に略垂直に入射するように、前記傾き調整手段を制御する傾き制御手段と、を備えることを特徴とする描画装置。

IPC (5件)：

G03F 7/24 , G03F 7/20 , H01L 21/027 , G02F 1/13 , H05K 3/00

FI (7件)：

G03F7/24 G , G03F7/24 Z , G03F7/20 501 , H01L21/30 526A , G02F1/13 101 , H05K3/00 H , H05K3/00 G

Fターム (18件)：

2H088FA16 , 2H088FA17 , 2H088FA18 , 2H088FA30 , 2H088MA20 , 2H097AA03 , 2H097AA16 , 2H097BA01 , 2H097GB04 , 2H097LA09 , 2H097LA12 , 5F146BA07 , 5F146CC01 , 5F146CC03 , 5F146CC13 , 5F146DA14 , 5F146DB05 , 5F146DC09

引用特許：

審査官引用 (4件)

リソグラフィ装置、デバイス製造方法および基板テーブル
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-320258 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
露光装置および基板の傾き補正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-205240 出願人：キヤノン株式会社
リソグラフィ装置及び装置製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-155593 出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.

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