特許
J-GLOBAL ID:201503063953953468

ナノクラスター生成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 小西 富雅 ,  中村 知公 ,  木村 誠司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-112995
公開番号(公開出願番号):特開2015-045031
出願日: 2013年05月29日
公開日(公表日): 2015年03月12日
要約:
【課題】ナノクラスター生成装置において、ナノクラスターのサイズ制御及び構造制御を向上させる。また、サイズ及び構造の少なくとも一方が選択されたナノクラスターの収量および収率を増大させる。【解決手段】ナノクラスター生成装置10は、真空容器11と、パルス放電を行い、プラズマを発生させるスパッタ源13と、スパッタ源13に対し、パルス状の電力を供給するパルス電源16と、スパッタ源13に対し第1の不活性ガスを供給する第1不活性ガス供給手段17と、真空容器11内に収容されるナノクラスター成長セル12と、ナノクラスター成長セル12内に第2の不活性ガスを導入する第2不活性ガス導入手段18と、を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
真空容器と、 パルス放電を行い、プラズマを発生させるスパッタ源と、 前記スパッタ源に対し、パルス状の電力を供給するパルス電源と、 前記スパッタ源に対し、第1の不活性ガスを供給する第1不活性ガス供給手段と、 前記真空容器内に収容されるナノクラスター成長セルと、 前記ナノクラスター成長セル内に第2の不活性ガスを導入する第2不活性ガス導入手段と、を備えるナノクラスター生成装置。
IPC (1件):
C23C 14/32
FI (1件):
C23C14/32 G
Fターム (7件):
4K029BA04 ,  4K029CA03 ,  4K029DA03 ,  4K029DA12 ,  4K029DD03 ,  4K029EA04 ,  4K029EA09
引用特許:
審査官引用 (7件)
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