特許
J-GLOBAL ID:201503064871847119

スピン流制御装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 平木 祐輔 ,  関谷 三男 ,  渡辺 敏章
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-236151
公開番号(公開出願番号):特開2015-095635
出願日: 2013年11月14日
公開日(公表日): 2015年05月18日
要約:
【課題】スピン流を制御する機構を提供し、更に、そのスピン流制御機構を用いてスピン流をオン・オフ制御する回路あるいはスピン流を用いた論理回路を提供する。【解決手段】非磁性導電体10にスピン注入するスピン注入部と、スピン注入部から注入され非磁性導電体中を拡散するスピン流を制御するスピン流制御部とを有する。スピン流制御部は、磁壁32が挿入された強磁性体31と、強磁性体31に制御電流を流して磁壁を移動させる電流源35とを有し、非磁性導電体中を拡散するスピン流に磁壁移動に伴って発生する電場を作用させることによってスピン流を遮断する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
非磁性導電体と、第1の強磁性体と第1の電流源を備え前記非磁性導電体にスピン注入するスピン注入部と、前記スピン注入部から注入され前記非磁性導電体中を拡散するスピン流を制御するスピン流制御部とを有し、 前記スピン流制御部は、磁壁が挿入された第2の強磁性体と、前記第2の強磁性体に制御電流を流して前記磁壁を移動させる第2の電流源とを有し、前記非磁性導電体中を拡散する前記スピン流に前記磁壁移動に伴って発生する電場を作用させることによって前記スピン流を遮断することを特徴とするスピン流制御装置。
IPC (1件):
H01L 29/82
FI (1件):
H01L29/82 Z
Fターム (11件):
5F092AB10 ,  5F092AC21 ,  5F092AD23 ,  5F092AD24 ,  5F092AD25 ,  5F092AD26 ,  5F092BD04 ,  5F092BD13 ,  5F092BD14 ,  5F092BD19 ,  5F092BD20
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • スピン流増幅装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2012-029825   出願人:株式会社日立製作所
  • スピン伝導素子
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2011-009234   出願人:TDK株式会社
引用文献:
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