特許
J-GLOBAL ID:201503070720668131
検査装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-223114
公開番号(公開出願番号):特開2015-087114
出願日: 2013年10月28日
公開日(公表日): 2015年05月07日
要約:
【課題】異物由来の欠陥と遮光膜由来の欠陥の判定を正確に且つ短時間で行って、歩留まりの低下や納期遅れ等の問題を解消することができる検査装置ならびに検査方法を提供すること。【解決手段】フォトマスクの欠陥を検出する検査装置19であって、必ず実施する光を用いた光学系に基づく検査手段1と前記の検査手段が欠陥を検出した時に実施する電子線を用いた光学系に基づく検査手段9を備えてなり、前記光を用いた光学系に基づく検査手段と電子線を用いた光学系に基づく検査手段が自動で切り替わる手段と、前記光を用いた光学系に基づく検査手段が検出した欠陥の座標を、前記電子線を用いた光学系に基づく検査手段に伝達する手段と、を備えていることを特徴とする検査装置。【選択図】図1
請求項(抜粋):
フォトマスクの欠陥を検出する検査装置であって、必ず実施する光を用いた光学系に基づく検査手段と前記の検査手段で欠陥が検出された時に実施する電子線を用いた光学系に基づく検査手段を備えてなり、前記光を用いた光学系に基づく検査手段と電子線を用いた光学系に基づく検査手段が自動で切り替わる手段と、前記光を用いた光学系に基づく検査手段が検出した欠陥の座標を、前記電子線を用いた光学系に基づく検査手段に伝達する手段と、を備えていることを特徴とする検査装置。
IPC (3件):
G01N 21/956
, G01N 23/225
, G03F 1/84
FI (3件):
G01N21/956 A
, G01N23/225
, G03F1/84
Fターム (34件):
2G001AA03
, 2G001AA07
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001CA07
, 2G001FA02
, 2G001GA06
, 2G001HA13
, 2G001JA01
, 2G001JA11
, 2G001KA03
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G051AA56
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051AC02
, 2G051BA10
, 2G051BC05
, 2G051CA01
, 2G051CA07
, 2G051CB03
, 2G051DA05
, 2G051EA14
, 2H095BD04
, 2H095BD05
, 2H095BD13
, 2H095BD14
, 2H095BD22
, 2H195BD04
, 2H195BD05
, 2H195BD13
, 2H195BD14
, 2H195BD22
引用特許:
出願人引用 (11件)
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特開昭60-218845
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特開昭58-162038
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光学顕微鏡装置及びこれを備えた検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-181633
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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特開昭63-013342
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異物分析方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-171226
出願人:株式会社アドバンテスト, 株式会社ケミトロニクス
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特開昭61-267246
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パターン欠陥検査方法およびその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-000939
出願人:株式会社日立製作所
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欠陥判定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-388833
出願人:ソニー株式会社
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異物検出・分析装置及びその方法
公報種別:再公表公報
出願番号:JP1997000244
出願人:株式会社アドバンテスト
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物体上の欠陥を再検査する装置及び方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-219834
出願人:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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特許第7355709号
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審査官引用 (12件)
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特開昭61-267246
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特開昭60-218845
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特開昭58-162038
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