特許
J-GLOBAL ID：201503073659801116
基体上にレジストの薄層を堆積させる装置およびプロセス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人広江アソシエイツ特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-535922
公開番号（公開出願番号）：特表2015-502834
出願日： 2012年10月12日
公開日（公表日）： 2015年01月29日
要約：
本発明は、基体上に薄いポリマーフィルムを形成することに関する。固体ポリマーレジストを小粒子のエアロゾルに変換し、粒子を静電的に帯電させ、基体上に堆積させ、粒子を連続層に流入させるための装置が記載される。固体レジストを加熱することによってレジストを小粒子のエアロゾルに変換して、ネブライゼーションに適合性の低粘度液体を形成し、ジェットまたはインパクトネブライゼーションおよびエアロゾル粒子サイジングの技術を適用してエアロゾルを形成するための装置がさらに記載される。エアロゾル粒子に電荷を付与するためにイオン化ガスを使用する方法がさらに記載され、充電装置の進行を使用することで、荷電粒子の流れを基体に向かわせる電界が生じる。充電装置および関連する装置の進行の結果、エアロゾル粒子の高い収集効率が得られる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
室温で固体であるポリマーの層であって、特定の厚さを有する層を基体上に堆積させるための装置であって、
a.固体ポリマー供給装置と、
b.前記ポリマー供給装置に連結され、固体ポリマーを溶融させて液体にするように構成された、第1ヒータと、
c.前記液体ポリマーから形成することができる粒子のエアロゾルのエアロゾル供給装置であって、前記粒子の大多数が前記特定の厚さの5倍よりも小さなサイズである、エアロゾル供給装置と、
d.以下でイオナイザと指定される、イオン化ガス分子の供給装置と、
e.前記粒子の少なくとも一部が帯電し得るように、前記イオン化ガス分子および前記エアロゾル粒子を近接させることができるような配置である、前記エアロゾル供給装置および前記イオナイザと、
f.その上に基体を支持させることができる、基体支持体と、
g.電界発生器であって、ここで荷電粒子を前記基体支持体上の基体へと向かわせることができる電界を発生させることができる、電界発生器と
h.第2ヒータであって、ここで前記基体支持体によって支持された基体を、前記基体と接触した粒子を軟化させる程度まで、粒子が融解し、前記特定の厚さを有するポリマー層を形成する程度まで加熱することができる、ヒータと、
を備えることを特徴とする装置。
IPC (4件)：
B05B 5/08
, H01L 21/027
, B05D 1/06
, B05B 13/00
B05B5/08 B
, H01L21/30 502D
, B05D1/06 L
, B05B13/00
4D075AA02
, 4D075AA09
, 4D075BB22X
, 4D075BB23Y
, 4D075BB49Y
, 4D075DA06
, 4D075DB14
, 4D075DC22
, 4D075EA02
, 4D075EA45
, 4D075EB08
, 4D075EB31
, 4F034AA10
, 4F034CA11
, 4F034CA25
, 4F034DA26
, 4F035AA04
, 4F035CA02
, 4F035CA05
, 4F035CB03
, 4F035CB13
, 4F035CC04
, 5F146AA17
, 5F146AA31
, 5F146AA33
, 5F146JA22
, 5F146JA27
, 5F146KA04
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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