文献

J-GLOBAL ID：201602210299656863   整理番号：16A0030583

粗視化重合体モデルを用いたリソグラフィープロセスシミュレーション研究

Lithography process simulation studies using coarse-grained polymer models

著者 (1件)： MORITA Hiroshi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名： Polymer Journal  (Polymer Journal)
巻： 48  号： 1  ページ： 45-50  発行年： 2016年01月 
JST資料番号： F0612A  ISSN： 0032-3896  CODEN： POLJB8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 軟質材料のためのシミュレーションソフトウェアであるOCTAを用いた粗視化重合体シミュレーション法に基づき,リソグラフィープロセスをモデル化し,リソグラフィープロセスにおける高分子鎖の動力学の機構を解明するために,これらのプロセスのシミュレーションを行った。トップ-ダウンプロセスの場合には,散逸粒子動力学法を用いて現像および洗浄プロセスをモデル化した。著者らの一連のシミュレーションから,結果としてレジスト重合体により構成されたラインパターンをシミュレートできた。洗浄プロセスにおいては,ラインエッジ粗さ(LER)の低減を認めることができ,LERを改質するために洗浄プロセスの重要性を確認した。有向性自己集合(DSA)プロセスと呼ばれるボトム-アッププロセスもまた,シミュレートできた。著者らのDSAプロセスシミュレーションから,欠陥消滅プロセスにおける高分子鎖の動力学を解析することができた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： モデル ,  *リソグラフィー ,  重合体 ,  動力学 ,  現像 ,  洗浄 ,  *レジスト ,  表面粗さ ,  *プロセスシミュレーション ,  高分子鎖 ,  粗視化モデル ,  *計算機利用 ,  *利用
準シソーラス用語： ラインエッジ粗さ ,  散逸粒子動力学

分類 (1件)： 高分子化学一般  (CG01000B)

引用文献 (18件)：

• ITRS working group. International Technology Roadmap for Semiconductors. http://www.itrs.net/. (2013).
• Doi, M., OCTA http://octa.jp/. (2002) Accessed 4 May 2015.
• Morita, H. & Doi, M. Meso-scale simulation of the polymer dynamics in the formation process of line-edge roughness. Proc. SPIE 7273, 727337 (2009).
• Morita, H. & Doi, M. Mesoscale simulation of line-edge structures based on polymer chains in development and rinse processes. J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS. 9, 041213 (2010).
• Morita, H. Meso-scale simulation of the line-edge structure based on resist polymer molecules by negative-tone process. Proc. SPIE 7972, 79720W (2011).

タイトルに関連する用語 (4件)： 粗視化 ,  重合体 ,  モデル ,  研究