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J-GLOBAL ID：201602211170893377   整理番号：16A0187530

EUVリソグラフィ用300バイレイヤのMo/Si多層膜ミラー

Mo/Si multilayer mirrors with 300-bilayers for EUV lithography

著者 (4件)： ICHIMARU Satoshi (NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN) ,  HATAYAMA Masatoshi (NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN) ,  OHCHI Tadayuki (NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN) ,  OKU Satoshi (NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9658  ページ： 965814.1-965814.5  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： EUV光源の出力が実用レベルに達し,EUVリソグラフィシステムが量産に使われると解決しなければならない問題が残る。その一つがEUV多層膜ミラーの寿命である。EUVリソグラフィ用300バイレイヤのMo/Si多層ミラーをLPP EUV光源での長寿命を目的として開発した。多層膜ミラーは層の応力を制御しながらマグネトロンスパッタで制作し,コヒーレント走査干渉計,XRR,EUV反射計で特性を調べた。開発した300バイレイヤMo/Si多層膜ミラーは標準のMo/Si EUVミラーよりも層数が5~6倍多く寿命も5~6倍長い。これらの結果から,300バイレイヤ多層膜の性能はEUV多層膜ミラーに適している。

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,  反射鏡 ,  多層膜 ,  光源 ,  *寿命 ,  マスク ,  反射率 ,  EUV光源 ,  *多層膜鏡
準シソーラス用語： *EUVマスク ,  EUVリソグラフィー ,  *多層膜ミラー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： EUVリソグラフィ ,  バイ ,  Mo ,  Si ,  多層膜ミラー