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J-GLOBAL ID：201602211927209592   整理番号：16A0337320

斜入射X線小角散乱法により明らかにされたポリ(メタクリル酸メチル)-b-ポリ(アクリル酸n-ブチル)薄膜のラメラミクロドメインの配向および緩和挙動

Orientation and relaxation behaviors of lamellar microdomains of poly(methyl methacrylate)-b-poly(n-butyl acrylate) thin films as revealed by grazing-incidence small-angle X-ray scattering

著者 (7件)： SAITO Itsuki (Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN) ,  SHIMADA Daiki (Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN) ,  AIKAWA Mayu (Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN) ,  MIYAZAKI Tsukasa (Nitto Denko Corp., Osaka, JPN) ,  SHIMOKITA Keisuke (Nitto Denko Corp., Osaka, JPN) ,  TAKAGI Hideaki (High Energy Accelerator Res. Organization, Ibaraki, JPN) ,  YAMAMOTO Katsuhiro (Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
資料名： Polymer Journal  (Polymer Journal)
巻： 48  号： 4  ページ： 399-406  発行年： 2016年04月 
JST資料番号： F0612A  ISSN： 0032-3896  CODEN： POLJB8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(メタクリル酸メチル-b-ポリアクリル酸n-ブチル)(PMMA-PnBA)薄膜の相分離構造の配向挙動およびドメイン間隔緩和を,斜入射X線小角散乱(GISAXS)により検討した。また,低エネルギーGISAXS(軟質X線)を,ミクロ相分離構造の深さ方向のプロファイリングについて実施した。PMMA-PnBAは,ラメラ構造を形成した。ラメラの平行配向を,熱アニールから誘導した。XPS測定は,PnBA成分の表面偏析が,160°Cでアニールした後1分以内に,急速に発生したことを示した。GISAXS測定は,平行配向ラメラの見かけの配向度およびドメイン間隔D_||が,アニーリング時間と共に増加し,また最終的なD_||が,バルク材料のドメイン間隔に近いことを明らかにした。ドメイン間隔の緩和は,ブロック共重合体のラメラの配向より長い時間がかかった。さらに,表面近傍のD_||は,膜の内部より大きいことが分かった,これは表面近傍のD_||が,高分子鎖の高い運動性により内側より速く緩和することを示している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ポリメタクリル酸メチル ,  *ポリアクリル酸ブチル ,  *小角X線散乱 ,  *ラメラ ,  *高分子薄膜 ,  *分子配向 ,  *緩和現象 ,  ブロック共重合体 ,  ミクロ相分離 ,  深さ分析 ,  焼なまし ,  高分子鎖 ,  表面偏析 ,  X線光電子分光法 ,  ミクロドメイン ,  原子移動ラジカル重合 ,  結晶構造 ,  結晶構造解析 ,  熱処理 ,  不飽和脂肪酸 ,  オレフィン化合物 ,  カルボン酸エステル ,  脂肪族カルボン酸 ,  不飽和カルボン酸
準シソーラス用語： ATRP【重合】 ,  XPS分析 ,  アニーリング ,  *斜入射小角X線散乱 ,  熱アニール

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (4件)： PMDETA ,  アクリル酸n-ブチル ,  アクリル酸tert-ブチル ,  メタクリル酸メチル

引用文献 (79件)：

• Singh, G., Yager, K., Berry, B., Kim, H-C & Karim, A Dynamic thermal field-induced gradient soft-shear for highly oriented block copolymer thin films ACS Nano 6, 10335-10342 (2012)
• Luo, Y., Montarnal, D., Kim, S., Shi, W., Barteau, K P., Pester, C W., Hustad, P D., Christianson, M D, Fredrickson, G H, Kramer, E J.& Hawker, C J Poly (dimethylsiloxane-b-methyl methacrylate) a promising candidate for Sub-10 nm patterning Macromolecules 48, 3422-3430 (2015)
• Gu, W., Zhao, H., Wei, Q., Coughlin, E B., Theato, P & Russell, T P Line patterns from cylinder-forming photocleavable block copolymers Adv Mater 25, 4690-4695 (2013)
• Zhang, Q., Cirpan, A., Russell, T P & Emrick, T Donor-acceptor poly (thiophene-block-perylene diimide) copolymers synthesis and solar cell fabrication Macromolecules 42, 1079-1082 (2009)
• Sun, S S., Zhang, C., Ledbetter, A., Choi, S., Seo, K., Bonner, C E Jr, Dress, M & Sariciftchi, N S Photovoltaic enhancement of organic solar cells by a bridged donor-acceptor block copolymer approach Appl. Phys Lett 90, 043117 (2007)

タイトルに関連する用語 (8件)： 斜入射 ,  X線小角散乱 ,  メタクリル酸メチル ,  アクリル酸n-ブチル ,  薄膜 ,  配向 ,  緩和 ,  挙動