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J-GLOBAL ID：201602215104746326   整理番号：16A0283393

可視光OCTとFDTDシミュレーションによる半導体光デバイス微細加工における新規非破壊膜厚測定法

著者 (8件)： 西剛史 (和歌山大) ,  尾崎信彦 (和歌山大) ,  及川陽一 (シンクランド) ,  宮地邦男 (シンクランド) ,  大里啓孝 (物質・材料研究機構) ,  渡辺英一郎 (物質・材料研究機構) ,  池田直樹 (物質・材料研究機構) ,  杉本喜正 (物質・材料研究機構)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 63rd  ページ： ROMBUNNO.21P-P15-12  発行年： 2016年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *光干渉断層計 ,  *有限差分時間領域法 ,  *光学素子 ,  *微細加工 ,  *非破壊検査
準シソーラス用語： OCT【光学器械】 ,  FDTD方法 ,  半導体光デバイス

分類 (1件)： 非破壊試験  (HB02030F)

タイトルに関連する用語 (7件)： 可視光 ,  OCT ,  FDTD ,  シミュレーション ,  半導体光デバイス ,  微細加工 ,  膜厚測定