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J-GLOBAL ID：201602256822168265   整理番号：16A0453446

プラント用の塗装理論および現象(第2章) (第6回)乾燥欠陥(その2)

Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Session 6 Chapter 2 Drying Defects Part 2

著者 (1件)： KAWAI Akira (Nagaoka Univ. Technol.)
資料名： Convertech & e-Print  (Convertech & e-Print)
巻： 6  号： 3  ページ： 110-116  発行年： 2016年05月 
JST資料番号： L8287A  ISSN： 2185-6931  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記連載第2章の第6回として「5)乾燥欠陥(続き)」について解説した。前の2回では,乾燥過程で発生し得る幾つかの塗装問題を紹介した。乾燥は塗膜を形成する最終段階であり,其処で最小欠陥までも発生を抑えることが必須である。各タイプの乾燥問題が生じていたが,夫々の発生機構を決定することにより解決策を発見できた。この様に,現象を十分に観察しそして原因を考察することが絶対必要である。5.7)乾燥の不規則性(乾燥不規則性生成モデル),5.8)構造的な反り(2つの平行パターン間のメニスカスでの乾燥工程,メニスカス乾燥工程観察用のモデル,エアトンネル生成過程でのパターン断面モデル),5.9)気泡(表面エネルギー理論を使い高分子膜と基材間の接着エネルギーを計算,高分子膜内での気泡発生,気泡発生流れ図,光増感剤濃度に及ぼす気泡数の依存性),5.10)おわりに。

シソーラス用語： *プラント ,  *塗装 ,  理論 ,  現象 ,  *乾燥 ,  *塗膜欠陥 ,  機構 ,  無秩序系 ,  モデル ,  *反り ,  メニスカス ,  *気泡 ,  表面エネルギー ,  高分子膜 ,  母材 ,  エネルギー計算 ,  発生 ,  流れ図 ,  光増感剤 ,  濃度 ,  数 ,  生成モデル ,  発生機構
準シソーラス用語： 気泡発生 ,  不規則系

分類 (4件)： 設備管理  (KB02020X) ,  金属への塗装  (YJ04030I) ,  固体の乾燥  (XD03022F) ,  伝熱一般・基礎  (PA02010O)

引用文献 (31件)：

• Akira Kawai: Condensation of Nano-Size Polymer Aggregates by Spin Coating, J. Adhesion and Interface, vol. 6 (1), 7-10 (2005)
• Akira Kawai: Residual Stress in Photoresist Film and the Affect of Solvents on Adhesion (Japanese), J. Adhesion Society of Japan, 31, 87-191 (1995)
• Akira Kawai: Cohesion property of resist micro pattern analyzed by using atomic force microscope (AFM), J. Photopolym. Sci. Technol., 16, 381-386 (2003)
• Akira Kawai: Collapse Behavior of Micro Resist Pattern Analyzed by Tip Indentation Method with Atomic Force Microscope, J. Vac. Sci. Technol. B, 17, 1090-1093 (1999)
• Akira Kawai: Adhesion of Photoresist Pattern Baked at 80 to 325°C in Tetramethyl-ammoniumhydroxide Aqueous Solution, Jpn. J. Appl. Phys., 31, 3725-3730 (1992)

タイトルに関連する用語 (5件)： プラント ,  塗装 ,  理論 ,  現象 ,  欠陥