特許
J-GLOBAL ID：201603001509424893

成膜装置

発明者：
高橋 憲彦

高橋 憲彦 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (2件)： 伊東 忠彦 ,  山口 昭則
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-036784
公開番号（公開出願番号）：特開2013-170309
特許番号：特許第5838851号
出願日： 2012年02月22日
公開日（公表日）： 2013年09月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 内部に基板が設置されている成膜チャンバーと、 前記成膜チャンバー内に設けられており、前記基板に向けてエアロゾルを噴射する微粒子噴射ノズルと、 を有し、 前記エアロゾルは原料微粒子をガス中に分散させたものであり、前記基板に前記原料微粒子による膜を成膜するものであって、 前記微粒子噴出ノズルは、前記原料微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを噴射する微粒子用ノズル部と、前記微粒子用ノズル部の周囲を囲むように配置されたガスを噴出する複数のガス用ノズル部とを有するものであって、 前記微粒子用ノズル部より噴射された前記原料微粒子の速度に対する前記ガス用ノズル部より噴射されたガスの速度は、0.5以上、1.2以下であり、 前記ガス用ノズル部より噴射されたガスは、前記微粒子用ノズル部より前記エアロゾルが噴出する方向に傾いて噴射されるものであって、 前記ガス用ノズル部より噴射されるガスの噴射方向と、前記基板の法線とのなす角は、10°以上であることを特徴とする成膜装置。
IPC (1件)：
C23C 24/04 ( 200 6.01)
FI (1件)：
C23C 24/04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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