特許
J-GLOBAL ID：201603005058875832

微細パターン形成方法、及び微細パターン形成装置

発明者：
和田 紀彦

和田 紀彦 について


出願人/特許権者：
パナソニックIPマネジメント株式会社

パナソニックIPマネジメント株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人新大阪国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-109776
公開番号（公開出願番号）：特開2014-226877
特許番号：特許第6032492号
出願日： 2013年05月24日
公開日（公表日）： 2014年12月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 所定の微細パターンが形成されたシート状の湾曲可能な薄板モールドを、予め表面にUV硬化樹脂が塗布されたUV光を透過する基板の上方に保持部材によって所定の角度で張力をかけて傾けて保持し、 前記薄板モールドの上方に設置した第1押圧ロールを前記薄板モールドの上方から降下させた後、前記第1押圧ロールによって前記薄板モールドを前記UV硬化樹脂に対して所定の圧力で押圧しながら、前記第1押圧ロールと第2押圧ロールを横方向に固定した状態で、前記基板が取り付けられた支持台を横方向へ移動させることにより、前記薄板モールドの表面を前記UV硬化樹脂に対して順次接触させ、 前記薄板モールドと前記UV硬化樹脂の接触部に対して、前記基板の下方から前記UV光を照射することで、前記基板上に塗布された前記UV硬化樹脂を硬化させ、 前記薄板モールドと前記基板を離型させ、更に、 前記薄板モールドは、前記薄板モールドの一端が、前記基板を支持する支持台に連結された状態で、前記基板の上方に前記保持部材によって所定の角度で張力をかけて傾けて保持されている、 ことを特徴とする微細パターン形成方法。
IPC (2件)：
B29C 59/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (2件)：
B29C 59/02 ZNM Z ,  H01L 21/30 502 D
引用特許：
審査官引用 (4件)
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