特許
J-GLOBAL ID：201603005842659917
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森下 賢樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-187139
公開番号（公開出願番号）：特開2013-251580
特許番号：特許第5852069号
出願日： 2013年09月10日
公開日（公表日）： 2013年12月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 投影システムの最終要素と基板および/または基板テーブルの対向表面との間の局所的な空間に液浸液を閉じ込める液体閉じ込め構造を備える流体ハンドリングシステムと、
前記空間に隣接する領域にガスを供給するガス供給デバイスであって、二酸化炭素ガスの供給のためのガスソースを備えるガス供給デバイスと、を備え、
前記液体閉じ込め構造は、
前記液体閉じ込め構造の底部から液体を二相流として抽出する流体抽出器と、
前記流体抽出器と前記対向表面との間のメニスカスにて前記液浸液に生成される気泡が二酸化炭素を実質的に含むように、前記ガス供給デバイスからの二酸化炭素の供給用に前記流体抽出器の半径方向外側にあるガス供給開口と、
前記投影システムと前記対向表面との間の前記空間へと延在するプレートと、を備え、前記プレートは、前記投影システムの露光領域の半径方向外側にあり液体を流通させる開口を有する、液浸リソグラフィ装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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