特許

J-GLOBAL ID：200903051898608319

流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

発明者： ディレックス,ダニエル,ヨゼフ,マリア ,  フィリップス,ダニー,マリア,ヒューベルタス ,  ヴァン デン ダンゲン,クレメンス,ヨハネス,ゲラルドス ,  ステッフェンス,コエン ,  ヴァン プッテン,アーノルド,ヤン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-112566
公開番号（公開出願番号）：特開2009-272635
出願日： 2009年05月07日
公開日（公表日）： 2009年11月19日
要約：

【課題】メニスカスの破壊が生じる速度を上げるために措置を執った流体ハンドリング構造が開示される。【解決手段】措置は、流体ハンドリング構造の複数の流体抽出開口の形状、及び複数の流体供給開口の形状及び密度を含む。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造が、平面図で有角形状に配置された複数の開口を有し、且つ前記流体ハンドリング構造が、前記開口が使用時に基板及び/又は前記基板を支持する基板テーブルに向かって配向されるように構成されており、 a)前記有角形状が、負の半径を持つ辺を有し、及び/又は b)前記有角形状が、0.05〜4.0mmの範囲の半径を持つ角を有する、 流体ハンドリング構造。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 515D

Fターム (2件)：

5F046CB01 ,  5F046CB27

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-120671   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-326781   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 液浸リソグラフィ用の液体噴射回収システム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-509591   出願人：株式会社ニコン
• 液浸リソグラフィのための流体の供給装置及び方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-525323   出願人：株式会社ニコン