特許
J-GLOBAL ID：201603006062188943

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜及びパターン形成方法

発明者：
川端 健志

川端 健志 について

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滝沢 裕雄

滝沢 裕雄 について

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渋谷 明規

渋谷 明規 について

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後藤 研由

後藤 研由 について

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小島 雅史

小島 雅史 について

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加藤 啓太

加藤 啓太 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (6件)： 蔵田 昌俊 ,  野河 信久 ,  河野 直樹 ,  井上 正 ,  鵜飼 健 ,  飯野 茂
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-284642
公開番号（公開出願番号）：特開2014-126767
特許番号：特許第6007100号
出願日： 2012年12月27日
公開日（公表日）： 2014年07月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)樹脂、及び、(B)一般式(I)で表されるオニウム塩化合物を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 式(I)中、 Rfは、フッ素原子を表す。 R1は、水素原子、または、フッ素原子を含まない1価の置換基を表す。 X1は、2つ以上の炭素原子を含む1価の有機基又はフッ素原子以外の置換基を有していてもよいメチル基であって、下記一般式(Ia)により表される有機基を表す。X1はR1と結合して環を形成してもよい。 Zは、オニウムカチオンを含む部位であって、活性光線又は放射線の照射により、イミド酸基又はメチド酸基となる部位を表す。 式(Ia)中、 L11は、-COO-、-OCO-、-CO-、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-NH-、-C(=S)-、-CONR-(Rは水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す)、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、またはこれらの複数を組み合わせた連結基を表す。L11により表される連結基はフッ素原子を含まない。 X11は置換基を表す。 一般式(Ia)により表される有機基は、全体として2つ以上の炭素原子を含む。
IPC (10件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  C07C 309/17 ( 200 6.01) ,  C07C 381/12 ( 200 6.01) ,  C07C 309/07 ( 200 6.01) ,  C07C 309/12 ( 200 6.01) ,  C07C 311/48 ( 200 6.01) ,  C07C 317/44 ( 200 6.01) ,  C07C 25/00 ( 200 6.01)
FI (10件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 601 ,  C07C 309/17 CSP ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/07 ,  C07C 309/12 ,  C07C 311/48 ,  C07C 317/44 ,  C07C 25/00
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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