特許
J-GLOBAL ID：200903027322227419

感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-350884
公開番号（公開出願番号）：特開2006-162735
出願日： 2004年12月03日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、PEB温度依存性が小さく、露光ラチチュードが大きく、パターンプロファイルが良好であり、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改善された感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により特定の有機酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される有機酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (12件)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025AD05 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CA48
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (16件)
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