特許
J-GLOBAL ID：201603007071647655
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-186127
公開番号（公開出願番号）：特開2014-045052
特許番号：特許第6006040号
出願日： 2012年08月27日
公開日（公表日）： 2014年03月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の表面にドーパントを含む薄膜を形成する基板処理装置であって、
基板を収容するチャンバーと、
前記チャンバー内にて基板を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された基板の表面にフッ酸を供給して当該表面に形成された酸化膜を除去するフッ酸供給手段と、
前記基板の表面にドーパント液を供給して薄膜を形成するドーパント液供給手段と、
前記表面にフッ酸を供給している途中からドーパント液の供給を開始するように前記フッ酸供給手段および前記ドーパント液供給手段を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/225 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
H01L 21/225 R
, H01L 21/304 642 A
, H01L 21/304 643 A
