特許
J-GLOBAL ID:201603008193189395
マスク位置決め方法、及びマスク位置決め装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
家入 健
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-191387
公開番号(公開出願番号):特開2014-049612
特許番号:特許第5880359号
出願日: 2012年08月31日
公開日(公表日): 2014年03月17日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ウェハ上に第1及び第2マスクを重ねて位置決めするマスク位置決め方法であって、
磁力発生する磁力発生手段と前記ウェハとの第1所定距離の位置で、前記第1マスクを前記ウェハ上に位置決めするステップと、
前記磁力発生手段を前記第1所定距離の位置から前記ウェハ側に接近させた第2所定距離の位置に移動させ、前記第1マスクを前記磁力発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着させるステップと、
前記第2所定距離の位置で、前記ウェハ上に位置決めされた前記第1マスク上において前記第2マスクを位置決めするステップと、
前記磁力発生手段を前記第2所定距離から前記ウェハ側に接近させた第3所定距離の位置に移動させ、前記第1及び第2マスクを前記磁力発生手段の磁力で前記ウェハ上に吸着させるステップと、
を含むことを特徴とするマスク位置決め方法。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (7件)
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プラズマ処理装置のワーク保持治具
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-288327
出願人:株式会社ケイテックリサーチ, 株式会社ニッシン, 東海電子工業株式会社, 株式会社キンキ磁石応用
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有機発光表示装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-231472
出願人:キヤノン株式会社
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アライメント装置及び成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-068846
出願人:株式会社アルバック
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薄膜形成装置および薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-277816
出願人:富士通株式会社
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薄膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-238275
出願人:ソニー株式会社
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シャドーマスク拘束方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-331464
出願人:ザビーオーシーグループインコーポレイテッド
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薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-335926
出願人:トヨタ自動車株式会社
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審査官引用 (7件)
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薄膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-238275
出願人:ソニー株式会社
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薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-335926
出願人:トヨタ自動車株式会社
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薄膜形成装置および薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-277816
出願人:富士通株式会社
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