特許
J-GLOBAL ID：201603008224145057

基板処理装置及び基板処理装置の基板載置部の雰囲気制御方法

発明者：
小 林 裕 典

小 林 裕 典 について

, 
溝 田 昌 吾

溝 田 昌 吾 について

, 
岡 村 尚 幸

岡 村 尚 幸 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 勝沼 宏仁 ,  永井 浩之 ,  森 秀行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-164448
公開番号（公開出願番号）：特開2016-040801
出願日： 2014年08月12日
公開日（公表日）： 2016年03月24日
要約：
【課題】基板載置部に置かれた基板が大気雰囲気に長時間曝されることを防止または抑制する。【解決手段】基板処理装置は、基板(W)を処理する処理部と、第1搬送室(13A)内に設けられ、複数の基板が収容可能な基板収容容器から基板を取り出す第1搬送機構(13)と、第2搬送室(17A)内に設けられ、基板を処理部に搬送する第2搬送機構(17)と、第1搬送機構及び第2搬送機構による基板の搬出入が可能な基板載置部(14)と、を備える。基板載置部の両端に、第1搬送室及び第2搬送室にそれぞれ面した開口部(147,148)が設けられ、これらの開口部のうちの前記第1搬送室及び前記第2搬送室のうちの内部圧力が高い方に面した開口部に、基板載置部に低湿度ガスを供給するためのガス吐出部(80)が設けられている。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板を処理する処理部と、 第1搬送室内に設けられ、複数の基板が収容可能な基板収容容器から基板を取り出す第1搬送機構と、 第2搬送室内に設けられ、基板を処理部に搬送する第2搬送機構と、 前記第1搬送機構及び前記第2搬送機構による基板の搬出入が可能な基板載置部と、 を備え、 前記基板載置部は、その両端に、前記第1搬送室及び前記第2搬送室にそれぞれ面した開口部を有し、これらの開口部のうちの前記第1搬送室及び前記第2搬送室のうちの内部圧力が高い方に面した開口部に、前記基板載置部に低湿度ガスを供給するためのガス吐出部を設けたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/02
FI (3件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/304 648L ,  H01L21/02 Z
Fターム (37件)：
5F131AA02 ,  5F131BA37 ,  5F131BB03 ,  5F131CA12 ,  5F131DA32 ,  5F131DA33 ,  5F131DA36 ,  5F131DA42 ,  5F131EA06 ,  5F131EA24 ,  5F131GA14 ,  5F131GA92 ,  5F131JA04 ,  5F131JA10 ,  5F131JA15 ,  5F131JA16 ,  5F131JA24 ,  5F131JA27 ,  5F131JA32 ,  5F131JA40 ,  5F157AA63 ,  5F157AA93 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB48 ,  5F157AB90 ,  5F157BB22 ,  5F157BH21 ,  5F157CB41 ,  5F157CE76 ,  5F157CE77 ,  5F157CF16 ,  5F157CF80 ,  5F157DB02 ,  5F157DB55 ,  5F157DB57
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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