特許
J-GLOBAL ID：201603010972563648
ナノインプリントリソグラフィ用テンプレートの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
藤枡 裕実
, 深町 圭子
, 伊藤 英生
, 後藤 直樹
, 伊藤 裕介
, 立石 英之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-199806
公開番号（公開出願番号）：特開2014-056893
特許番号：特許第5983218号
出願日： 2012年09月11日
公開日（公表日）： 2014年03月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一方の主面側にメサ状の段差構造が形成され、他方の主面側に、平面視において、前記メサ状の段差構造と重なり、かつ、前記メサ状の段差構造よりも広い面積を有する凹部が形成されている光透過性基板の前記メサ状の段差構造の上面に、電子線描画またはレーザー描画によりレジストパターンを形成するナノインプリントリソグラフィ用テンプレートの製造方法であって、
前記電子線描画またはレーザー描画によりレジストパターンを形成する工程において、描画装置に搭載された前記光透過性基板の前記凹部を形成する前後の変形に基づいて前記レジストパターンのパターンデータを補正することを特徴とするナノインプリントリソグラフィ用テンプレートの製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
H01L 21/30 502 D
, G03F 7/20 505
, G03F 7/20 504
, B29C 59/02 ZNM B
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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