特許
J-GLOBAL ID：201103023712457850
マスクブランク用基板とその製造方法、インプリントモールド用マスクブランク及びインプリントモールドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-012280
公開番号（公開出願番号）：特開2011-148227
出願日： 2010年01月22日
公開日（公表日）： 2011年08月04日
要約：
【課題】インプリントモールドの離型(剥離)を容易にするための凹部を精度良く形成でき、且つそのような加工の工程負荷が小さくて済み、さらに凹部を形成することによるモールドの強度や剛性の低下を抑えたインプリントモールドの作製に用いるマスクブランク用基板を提供する。【解決手段】基板と該基板の表側主表面上に形成された薄膜とを有してなり、前記薄膜及び基板をエッチング加工してインプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いる基板である。この基板1は、所定の形状の孔2を穿設してなる基材1aを含む少なくとも2枚の基材を接合することにより基板の裏側主表面にその少なくとも外周部を除く領域に上記孔2からなる凹部3を形成したものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板と該基板の表側主表面上に形成された薄膜とを有してなり、前記薄膜及び前記基板をエッチング加工してインプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いる基板であって、
前記基板は、所定の形状の孔を穿設してなる基材を含む少なくとも2枚の基材を接合することにより前記基板の裏側主表面にその少なくとも外周部を除く領域に前記孔からなる凹部を形成してなることを特徴とするマスクブランク用基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C33/38
, H01L21/30 502D
4F202AH33
, 4F202AH73
, 4F202AJ06
, 4F202AJ09
, 4F202CD06
, 4F202CD23
, 4F202CD24
, 4F202CD30
, 4F202CK43
, 5F046AA28
, 5F146AA28
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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