特許
J-GLOBAL ID：201103066041799964
パターン作成方法、プロセス決定方法およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-280937
公開番号（公開出願番号）：特開2011-124389
出願日： 2009年12月10日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：
【課題】インプリントリソグラフィを用いて所望のパターン形成を行うパターン生成方法を提供すること。【解決手段】テンプレートを用いたインプリントプロセスを実施してウェハ上にパターンを形成する際の、ウェハ上パターンの設計レイアウトを用意する工程と、設計パターンに基づいて、ウェハ上パターンを形成するためのプロセスをシミュレーションまたは実験により実施して、ウェハ上での仕上がり形状を取得する工程と、設計パターンと取得したウェハ上での仕上がり形状とを比較して、所定の条件を満たしているか否かを判定する工程と、所定の条件を満たしている場合は設計パターンを採用し、所定の条件を満たしていない場合は設計パターンを補正する工程と、を有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
テンプレートを用いたインプリントプロセスを実施して基板上にパターンを形成する際の、前記基板上パターンの設計パターンを用意する工程と、
前記設計パターンに基づいて、前記基板上パターンを形成するためのプロセスをシミュレーションまたは実験により実施して、前記基板上パターンを取得する工程と、
前記設計パターンと前記取得した前記基板上パターンとを比較して、所定の条件を満たしているか否かを判定する工程と、
前記所定の条件を満たしている場合は前記設計パターンを採用し、前記所定の条件を満たしていない場合は前記設計パターンを補正する工程と、
を有することを特徴とするパターン生成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F046AA17
, 5F046AA28
, 5F146AA17
, 5F146AA28
