特許
J-GLOBAL ID：201603011108383898
基板ケース洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
樋口 正樹
, 小林 十四雄
, 岡村 信一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-207051
公開番号（公開出願番号）：特開2014-063822
特許番号：特許第6025250号
出願日： 2012年09月20日
公開日（公表日）： 2014年04月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ベース及びベースを覆うシェルを備え内部に基板を収容する基板ケースを、上記基板が空の状態で洗浄する基板ケース洗浄装置において、
クリーンな空間を形成するブースを備え、該ブース内に、上記基板ケースのベース及びシェルの各部品を分離した状態で収容して洗浄する洗浄槽を備え、上記ブース内で上記基板ケースを支持する支持台を設け、該基板ケースの各部品を上記支持台と洗浄槽との間で搬送する搬送機構を備え、上記ブースに上記基板ケースが通過可能且つシャッタで開閉される開口を設け、該ブースの開口の外部に上記基板ケースが所定位置に位置決めされて載置可能な載置台を設け、上記基板ケースの洗浄前に上記シャッタを開にして上記載置台に載置された基板ケースを上記支持台に移載し、該基板ケースの洗浄後に上記シャッタを開にして上記支持台に支持された基板ケースを上記載置台に移載する移載機構を設け、
上記移載機構は、上記支持台を搭載し上記載置台側に進出して該載置台と上記支持台との間で上記基板ケースの受取り,引渡しを行う進出位置及び上記ブース内に後退して上記搬送機構と上記支持台との間で該基板ケースの引渡し,受取りを行う後退位置の2位置に移動可能な機台と、該機台を移動可能に支持するレールと、該機台を上記進出位置及び後退位置の2位置に移動させる進退駆動部とを備えたことを特徴とする基板ケース洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/677 ( 200 6.01)
, G03F 1/66 ( 201 2.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
H01L 21/68 A
, G03F 1/66
, H01L 21/30 531 M
, H01L 21/30 503 E
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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